Occasion EVG / EV GROUP 420 #9292586 à vendre en France

EVG/EV GROUP 420 Masque Aligner est un équipement hautement technologique conçu pour les applications de photolithographie. Utilisant l'optique next-gen, le système est en mesure d'aligner avec précision les photomasques pour les applications à l'échelle nanométrique. Cette unité est capable d'imprimer des caractéristiques aussi petites que 35nm ou plus, ce qui en fait un choix idéal pour les technologies de pointe. En plus de son impressionnante précision d'impression, EVG 420 offre également une large gamme de caractéristiques qui en font une option attrayante pour une fabrication de haute précision. EV GROUP 420 Masque Aligner se compose d'un capteur de caméra de 10,4 mégapixels, objectif d'imagerie réglable, étages motorisés de haute précision, mandrin intégré de plaquette sous vide, et un PC haut de gamme pour contrôler l'ensemble de la machine. L'outil offre également un large choix d'options logicielles, permettant aux utilisateurs d'avoir un contrôle complet sur tous les paramètres du processus de photolithographie. L'actif offre une précision d'alignement de haute précision jusqu'à 15nm, et est capable d'imprimer des motifs précis de 35nm ou des caractéristiques supérieures. Son modèle de focalisation et de rétroaction de position assure des résultats d'impression cohérents, tandis que la vitesse élevée du moteur et le positionnement répétable donnent un plus grand débit pour une production à haut volume. De plus, l'équipement dispose de systèmes de surveillance de l'alignement et d'autofocus. 420 Masque Aligner offre également une grande variété de fonctions de sécurité importantes, telles qu'un bouton d'arrêt d'urgence intégré, une commande manuelle et une fonction d'arrêt automatique. Ces caractéristiques de sécurité aident à assurer un environnement de travail sûr pour toute équipe de fabrication. Dans l'ensemble, EVG/EV GROUP 420 Masque Aligner est un système puissant, polyvalent et extrêmement précis qui est parfait pour toute opération de photolithographie complexe. Ses technologies de pointe et sa variété d'options logicielles en font un choix idéal pour toute installation de production cherchant à rester en avance sur la courbe et à produire des produits nanométriques de la plus haute qualité.