Occasion EVG / EV GROUP 601 #9402075 à vendre en France

EVG/EV GROUP 601 Masque Aligner est un masque de haute précision conçu pour être utilisé dans le cadre de la suite multi-traitement dans la fabrication de photomasques avancés. Avec une taille de substrat allant jusqu'à 200mm x 250mm et une précision d'alignement allant jusqu'à 60 nanomètres (nm), cet aligneur de masque est bien équipé pour traiter même les photomasques les plus délicats et les plus sensibles. EVG 601 Mask Aligner a été spécialement conçu pour des procédés de fabrication nécessitant un alignement lithographique précis d'un photomasque à motifs sur un substrat. L'aligneur du masque est équipé de marquages d'alignement à deux étages et d'imagerie en temps réel pour une précision maximale, assurant que le photomasque est exactement aligné avec le substrat. Son étage de précision bidimensionnel utilise la technologie d'entraînement piézoélectrique pour fournir une résolution de pas au niveau du nanomètre et offre une répétabilité de position de 10 nm. EV GROUP 601 Masque Aligner peut accueillir des plaquettes de taille jusqu'à 200 mm en diagonale, et son système d'alignement est réglable pour accueillir différentes formes de photomasques. 601 Masque Aligner est un excellent choix pour les procédés de lithographie avancés tels que l'exposition et le développement de masques et de réticules, ainsi que de photomasques pré- et post-traitement. De plus, le masque aligneur est équipé d'un système de navigation embarqué qui assure un mouvement automatique entre les repères d'alignement et permet des temps d'alignement plus rapides. Le système de navigation assure également un alignement de substrat à masque plus rapide et plus précis. EVG/EV GROUP 601 Masque Aligner est un support de masque polyvalent et fiable qui peut être utilisé dans une gamme de procédés lithographiques. Le masque aligneur est capable de fournir un alignement de haute précision, des vitesses de traitement rapides, et un rendement amélioré, faisant EVG 601 un choix idéal pour le traitement des photomasques.