Occasion EVG / EV GROUP 610 #9197737 à vendre en France

EVG/EV GROUP 610 est un aligneur de masque de précision de pointe utilisé dans le processus de lithographie. Il est spécialement conçu pour la production de photomasques et de réticules avancés utilisés en photolithographie, spécifiquement pour les noeuds de traitement de nouvelle génération. Ces aligneurs de masques utilisent un équipement à double obturateur à base de lithographie pour obtenir une précision de calcul de ± 1nm. EVG 610 dispose également d'une combinaison unique de composants mécaniques, électriques et logiciels pour fournir un alignement précis et des résultats de processus reproductibles. EV GROUP 610 dispose d'un système optique avancé avec une diode laser qui utilise plusieurs longueurs d'onde laser sélectionnables et des niveaux de puissance pour une haute résolution et précision. Cela le rend idéal pour la production de photomasques et de réticules aux nœuds les plus avancés. Le laser permet également un alignement et un enregistrement de haute précision même en utilisant des photomasques avancés avec des structures en porte-à-faux. En outre, le laser 610 est très robuste, avec une faible réflectivité, ce qui le rend idéal pour la production d'une variété de photomasques. EVG/EV GROUP 610 dispose également d'une machine de manutention automatisée des substrats, qui permet un alignement et un traitement efficaces des plaquettes. Cela comprend un chargeur automatisé et un chargeur automatique de substrat en option, ce qui le rend idéal pour les besoins de production. Les étages de plaquettes et de réticules asservis offrent une précision et une précision ultra élevées avec une répétabilité de 1,5nm. Les étages comportent également des algorithmes avancés de contrôle de mouvement pour un mouvement de pièce optimisé et un module de compensation de roulis motorisé pour un placement précis de pièce. EVG 610 dispose d'un outil d'exposition polyvalent, qui comprend un actif de projection UV de haute précision et en position fixe. Ce modèle assure un enregistrement précis et reproductible pour des applications lithographiques de haute précision. EV GROUP 610 fournit également un équipement de contrôle d'exposition entièrement automatisé avec des algorithmes intégrés de reconnaissance de motifs pour un fonctionnement rapide et fiable. Enfin, 610 dispose de capacités avancées de suivi et de surveillance des plaquettes, y compris un système de caméra CCD 0 segment intégré. Cette unité intégrée dispose d'algorithmes avancés de reconnaissance des défauts et d'intégration avec les systèmes de suivi des processus en aval. En outre, un logiciel optionnel est disponible avec des fonctionnalités avancées telles que des algorithmes d'optimisation 3D, des capacités améliorées de reconnaissance des défauts, et la surveillance des processus. Dans l'ensemble, EVG/EV GROUP 610 est un alignement de masque haut de gamme avec des fonctionnalités avancées pour le traitement de lithographie de haute précision. La combinaison de composants optiques, mécaniques, électriques et logiciels le rend idéal pour la production des photomasques et réticules les plus avancés. En outre, la machine d'automatisation et les capacités de reconnaissance des défauts améliorent l'efficacité du processus et fournissent des résultats répétables et fiables.