Occasion EVG / EV GROUP 620 #9144780 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un masque photo-lithographique haut de gamme conçu pour un alignement précis et précis des masques, plaquettes et substrats. Il s'agit d'un aligneur ordinateur-masque (CMA) qui permet d'aligner les masques d'exposition sur les substrats avec une précision et une précision maximales. Le système est capable de créer des pochoirs avec une résolution de 1 μ m pour les composants semi-conducteurs et électroniques. EVG 620 dispose de deux plates-formes de mouvement XY à moteur pas à pas qui offrent un alignement précis du substrat. Ces plates-formes entraínent une plate-forme de mouvement qui tient un masque d'exposition, lui permettant de se déplacer en deux axes par paliers précis. Ceci combiné avec le masque qui tient un motif ou une conception spécifique, permet de transférer un substrat ou une plaquette sans contact avec de faibles désalignements ou déplacements. En plus de fournir un alignement précis pour les processus de photo-lithographie, EV GROUP 620 a également des capacités d'autofocus. Autofocus veille à ce que le substrat soit analysé avec précision et précision avant le début du processus d'exposition, en veillant à ce que l'ensemble du processus soit effectué de manière optimale. 620 est livré avec une interface utilisateur graphique intuitive et claire qui permet un fonctionnement et une configuration faciles. Il permet un positionnement précis et rapide, ce qui signifie que tout le processus de photo-lithographie peut être complété rapidement et sans heurts. En outre, EVG/EV GROUP 620 est conçu pour être modulaire et peut être facilement mis à niveau pour répondre aux exigences changeantes des clients. Cela permet une flexibilité pour les mises à niveau potentielles en bas de la ligne. Enfin, EVG 620 est très configurable et peut être personnalisé pour s'adapter à des applications spécifiques. Que ce soit pour un alignement de haute précision ou un travail fin délicat, EV GROUP 620 peut être mis en place selon différentes exigences du client. 620 est un alignement de masque photo-lithographique haut de gamme qui fournit un alignement précis et précis des masques et substrats d'exposition, avec un système autofocus intégré et une interface graphique claire. Il est modulaire et personnalisable, et est livré avec la possibilité d'être mis à jour, permettant un fonctionnement transparent et une satisfaction maximale de l'utilisateur.