Occasion EVG / EV GROUP 620 #9160674 à vendre en France

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ID: 9160674
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 2005
Mask aligner, 4"-6" Chuck size: 2", 4" & 6" Mask holder: 3", 5" & 7" Printing mask holder / Chuck Alignment: Topside & Back side Cassette to cassette and manual mode TSA / BSA / NIL module GENMARK Robot 2005 vintage.
EVG (EV GROUP) EVG/EV GROUP 620 est un alignement de masque automatisé et tout-en-un qui est largement utilisé dans le domaine de la photolithographie pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs. EVG 620 est un outil de lithographie flexible et de haute précision qui offre une large gamme de capacités d'alignement et d'imagerie, lui permettant d'être utilisé pour la fabrication de puces de circuits intégrés complexes (IC) et d'autres dispositifs microélectroniques. EV GROUP 620 est équipé d'un positionnement très précis et reproductible pour les applications de lithographie critique. Il combine un étage d'équipement de positionnement global (GPS) de haute précision XY-theta (5 axes) avec un système d'alignement local à piézo-axe (LAS), ce qui se traduit par une précision et une répétabilité impressionnantes dans la gamme de nanomètres. 620 se vante également d'un microscope PBS (polariseur séparateur de faisceau) de pointe, qui permet l'imagerie optique à fort grossissement pour soutenir l'alignement avec des résolutions de sous-microns. Par ailleurs, EVG/EV GROUP 620 comprend également une unité d'imagerie à diode laser intégrée qui améliore encore sa capacité d'imagerie. EVG 620 est capable de traiter une variété de substrats avec une large gamme d'épaisseurs de résistance. Son étage de haute précision lui permet d'aligner et d'images précises sur des substrats jusqu'à 300 millimètres (12 pouces) de taille. Il est également capable de former des caractéristiques damascènes doubles, la création de tranchées, vias, portes, ou même des structures 3D complexes. EV GROUP 620 dispose d'un large éventail de configurations et d'options qui lui permettent d'être adapté aux besoins spécifiques des clients. Ces configurations comprennent notamment un aligneur IC, un aligneur de masque, un scanner de plaquettes, un scanner de masques et une machine d'imagerie directe laser à impulsions. En outre, 620 dispose d'une interface utilisateur graphique conviviale et intuitive (interface graphique) avec la technologie d'écran tactile, ce qui le rend facile à utiliser même par des utilisateurs inexpérimentés. Cet alignement de masque tout-en-un est conçu pour être compatible avec pratiquement tous les outils de contrôle de processus, permettant une intégration et un fonctionnement faciles dans tous les processus de fabrication internes existants. En outre, cette machine est capable de fonctionner en salle blanche et est soutenue par un service et un support exceptionnels pour assurer un fonctionnement optimal à tout moment. Dans l'ensemble, EVG/EV GROUP 620 est un alliage de masque étonnant qui offre des performances de pointe et les normes de qualité les plus élevées dans l'industrie. Ses capacités avancées et sa fiabilité en font l'un des meilleurs choix pour les applications de photolithographie.
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