Occasion EVG / EV GROUP 620 #9207967 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un alignement de haute précision et un alignement de masque polyvalent optimisé pour un alignement et une mise en forme évolués grâce à un fonctionnement rapide, précis et polyvalent. Il présente une opération à faible budget thermique pour la fabrication de pointe de dispositifs nanométriques où la distorsion de l'impression thermique est un problème. EVG 620 se compose d'une étape de manipulation des plaquettes et des masques, d'un projet de faisceau et d'un équipement d'obturation, d'une étape de traduction des masques de précision, d'un contrôleur et d'un système d'éclairage et de projection motorisé. La stabilité des plaquettes et des masques est assurée par une technologie exclusive de port porteur EVG/EV GROPU P6000. Cette technologie permet un chargement sans effort, une automatisation totale et un positionnement facile de jusqu'à 5 ″ plaquettes et 10 ″ x 10 ″ porteurs de motifs. L'unité optique de précision EV GROUP 620 se compose d'une machine optique à base de Zemax avec un objectif Fresnel informatisé pour améliorer le champ de vision et réduire les aberrations. Il est en outre équipé d'un outil de double éclairage et de projection et d'une option de correction de distorsion intra-champ. L'alignement des plaquettes est fait à l'aide de la gamme de capteurs d'alignement avancés de la machine et de logiciels d'alignement automatique. Il est également équipé de modes d'alignement avancés pour soutenir différents besoins d'alignement et de fixation. En travaillant avec des valeurs de recouvrement précises, 620 chevauchent précisément des motifs sur des plaquettes pour créer des structures complexes. D'autres caractéristiques remarquables de EVG/EV GROUP 620 comprennent son interféromètre laser de superposition et de précision de fixation, et un obturateur hydraulique pour un contrôle précis de l'exposition. L'actif est également adapté pour travailler avec une gamme de matériaux, des photomasques traditionnels aux matériaux d'appareils avancés tels que SiGe ou GaN. Dans l'ensemble, EVG 620 est un alignement de masque puissant et polyvalent et un choix fiable pour les applications qui nécessitent la plus grande précision et précision. C'est l'outil parfait pour créer des dispositifs nanométriques et est devenu indispensable dans les laboratoires de fabrication du monde entier.