Occasion EVG / EV GROUP 620 #9216173 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque, utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs pour réaliser des circuits intégrés (IC). C'est un outil de micro-modélisation laser qui utilise une caméra haute résolution pour diriger un faisceau laser sur un masque d'une géométrie spécifique. 420 mm ² X-Y les stades sont capables d'exactement placer le masque pendant le fait de modeler, en accomplissant une exactitude d'alignement minimale de ±0.3 µm. L'équipement a un angle de rotation ± 7 °, permettant une flexibilité de traitement maximale. EVG 620 dispose d'un logiciel VIRTUAL STAGE™ Control, qui offre un lieu de travail rapide, convivial et une interface facile à utiliser. Il permet aux utilisateurs de programmer le laser avec les paramètres requis et de contrôler efficacement les processus de production. Le logiciel fournit également un rapport complet détaillant les paramètres programmés et l'information du système, qui aide à surveiller l'exactitude et la répétabilité de l'unité. EV GROUP 620 fonctionne à l'aide d'un laser avancé refroidi à l'air d'une longueur d'onde de 355 nm. La lumière laser est réfléchie au niveau du masque puis dirigée vers le substrat, où le motif développé est défini. Ce processus est terminé en deux à trois minutes, selon le type et la complexité du motif. La 620 dispose d'une machine de balayage synchronisé XY intégrée, et fournit une trajectoire de haute précision pour le faisceau laser et le masque, assurant un balayage précis. L'unité dispose d'une technologie de compensation dynamique intéressante, qui assure une focalisation optimale dans toutes les directions. Il dispose également d'une pompe et d'un filtre uniques sur le substrat. EVG/EV GROUP 620 offre également aux utilisateurs un outil de configuration intelligent qui aide à la production d'IC à grande échelle. Il est équipé d'un mandrin de plaquette sur l'axe, qui aligne uniformément la plaquette. En outre, le recentrage intégré fondé sur le prisme réduit au minimum la nécessité de recentrer les opérations au niveau mondial et augmente la productivité. EVG 620 dispose également d'un modèle d'autofocus laser qui ajuste rapidement la focalisation laser pendant le balayage et améliore le rendement du motif. De plus, cette unité est capable de manipuler une gamme de substrats différents et est optimisée pour fonctionner avec tous types de matériaux résistants. Dans l'ensemble, EV GROUP 620 est un aligneur de masque très efficace et précis, permettant aux utilisateurs de produire des motifs complexes et complexes avec un minimum de fusées. C'est un choix idéal pour les utilisateurs qui cherchent à produire des puces semi-conductrices détaillées et des circuits intégrés de manière efficace et fiable.