Occasion EVG / EV GROUP 620 #9223622 à vendre en France

ID: 9223622
Taille de la plaquette: 4"
Automated mask aligner, 4" Upgradable to 6".
EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque avancé qui permet une lithographie optique précise avec une grande surface de balisage uniforme. Il est capable de traiter des substrats jusqu'à une taille de 500 mm x 500 mm et est conçu pour répondre aux exigences des marchés des photomasques de prochaine génération. L'équipement est basé sur un concept de cellule de travail qui le rend très polyvalent et fiable. Il est équipé de 5 modes d'exposition, dont 4 champs, semi-champs, pilote automatique et balayage plein champ, et d'un système de planage et de rotation dédié pour un alignement précis. La plate-forme est équipée d'une caméra vidéo haute résolution, permettant une imagerie vidéo précise de la plaquette et l'observation des résultats du processus. EVG 620 adopte une unité optique avancée pour assurer une lithographie de haute précision, à l'aide d'une optique de pointe comprenant une lentille de balayage asphérique automatique et un objectif fluorure. La machine est en outre équipée d'un outil d'alignement dédié, permettant un haut degré d'automatisation et de répétabilité. EV GROUP 620 est conçu pour simplifier les processus d'intégration pour la production de masques, en utilisant un certain nombre de fonctionnalités telles que le nettoyage automatisé des surfaces, les routines avancées de reconnaissance des plaquettes et des masques et plusieurs fonctions de contrôle des processus. Il permet également d'utiliser une variété de masques et de matériaux de substrat. L'actif est également équipé d'un gestionnaire de plaquettes intégré, permettant l'échange automatisé de plaquettes, ce qui le rend idéal pour une production à haut débit. De plus, le logiciel peut également être adapté aux besoins spécifiques du client. Finalement, 620 alignements de masque offre une combinaison unique de performance, de flexibilité et de précision. C'est un outil puissant pour la production de photomasques complexes et idéal pour les applications de lithographie optique en microélectronique, en semi-conducteur et en nanotechnologie.
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