Occasion EVG / EV GROUP 620 #9224786 à vendre en France

Les aligneurs de masques EVG/EV GROUP 620 sont des systèmes de photolithographie avancés conçus pour l'alignement de photomasques de haute précision et la fabrication lithographique. Cet équipement est capable de produire des images extrêmement précises sur un niveau de plaquette avec une variation de température minimale. EVG 620 est adapté à une gamme d'applications incluant le contrôle des processus et la métrologie. Il utilise le système intégré de vision en 3D pour capturer des images et réaliser des fonctions d'imagerie avancées avec son appareil photo numérique. Cette technologie d'imagerie est très précise et offre jusqu'à 3,5 microns de résolution. L'aligneur a un étage de haute précision entraîné par un servomoteur, et l'étage couvre une plage de course de 53mm sur 53 mm et peut se déplacer entre 25 et 4000 mm/s avec une résolution de 0,02 mm. Les propriétés d'auto-alignement de EV GROUP 620 sont à la fois fiables et puissantes. Il a une précision d'alignement haute résolution de 0,7 μ m et peut exécuter un alignement de motif ultra rapide de 9µs. La fonction d'auto-alignement comprend également des logiciels avancés de superposition et de contrôle des processus. L'unité comprend également un module de correction de distorsion optique propriétaire et ultra-précis qui fonctionne en temps réel. Le module est compatible avec les processus de résistance où le contrôle du faisceau est essentiel pour résoudre le plus haut niveau de structures. La 620 est conforme à la gravure DRIE et ICP, ainsi qu'aux procédés chimiques tels que les nettoyants, les oxydes, les CMP et les dopants. Il est capable de l'alignement monobloc micromask et le contrôle du processus, ainsi que l'alignement de la pile multi-masque. Le matériel EVG/EV GROUP 620 permet un fonctionnement entièrement automatisé avec un faible coût d'exploitation et un délai de livraison rapide. La machine comprend une plate-forme en graphite robuste et une chambre de traitement de 5 pouces pour les capacités « tout-en-un ». Il est également équipé d'une conversion rapide des recettes et d'une capacité de cluster flexible ainsi que d'un outil CD/CNS optionnel pour le fonctionnement multi-utilisateurs. En conclusion, EVG 620 est un aligneur de masque très avancé qui répond à toutes les normes pour la photolithographie précise et le contrôle des processus. Avec ses fonctions d'imagerie avancées, ses propriétés d'auto-alignement fiables, son matériel robuste et son fonctionnement flexible, il est un choix idéal pour une variété de besoins de fabrication et de métrologie.