Occasion EVG / EV GROUP 620 #9232815 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un adaptateur de masque semi-automatisé adapté à une variété d'applications différentes. Il a une précision de répétabilité de processus de 2,0 microns, et une précision d'étage de substrat de 3,0 microns. La machine a une conception modulaire qui permet de l'utiliser dans les configurations d'encastrement et de non encastrement. Le mode d'encastrement est plus adapté au traitement général des plaquettes semi-conductrices, tandis que le mode non encastrement est plus adapté aux applications avancées de masquage. Il dispose d'une technique brevetée d'imagerie directe, appelée « Singleexposure », qui se traduit par une précision d'imagerie supérieure et un haut débit de production. Cela permet à la machine de réaliser un large éventail de procédés, allant de la pulvérisation et de l'implantation ionique au rechargement de la résine photosensible et à la métallisation à plusieurs niveaux. EVG 620 dispose également d'une gamme complète de fonctions de sécurité intégrées. Ceux-ci comprennent des capteurs intégrés qui détectent toute incohérence dans la précision d'alignement du masque et de la plaquette, l'arrêt automatique du faisceau lorsque l'alignement est éteint de plus de 2 microns, le retrait manuel du masque mais la détection automatique de la focalisation pour réduire la possibilité d'erreurs de l'opérateur, et la technologie d'habillage des faisceaux de fibres optiques pour maintenir la taille des fonctionnalités avec une perte de résolution minimale. EV GROUP 620 dispose d'une interface utilisateur qui permet aux utilisateurs de configurer facilement divers aspects de la machine. Cela inclut la mise en place de recettes de processus pour des types particuliers de masques et de substrats, la création de modèles de traçage pour le marquage à plusieurs niveaux, l'alignement des masques sur les plaquettes avec une précision précise des pixels, la création d'une liste de traces empilables pour la numérotation des processus par lots et l'ajustement des paramètres d'exposition pour chaque application. Le logiciel dispose également de profils préconfigurés, permettant aux utilisateurs de configurer rapidement et efficacement le processus par lots. La machine offre un environnement compatible salle blanche avec une plage de température étanche de 10-38 ° C et un taux d'humidité relative de 60 %, assurant ainsi aucune perturbation inutile du processus. 620 dispose également d'un système avancé d'alignement de précision (APS) qui garantit un processus d'alignement très précis et reproductible. Cela garantit que le motif désiré est enregistré exactement selon les spécifications de l'utilisateur. Dans l'ensemble, EVG/EV GROUP 620 est un alignement de masque fiable et flexible qui fournira des résultats de haute qualité avec une reproductibilité cohérente. Sa conception modulaire et sa large gamme de fonctions de sécurité intégrées en font un choix puissant et souhaitable pour tout environnement de production nécessitant un masquage de haute précision.