Occasion EVG / EV GROUP 620 #9244743 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque conçu pour des applications de haute précision et de photolithographie à haut débit dans l'industrie des semi-conducteurs. C'est un alignement de masque fiable et performant avec un équipement intégré et automatisé de centrage du masque. Le système offre une précision et une répétabilité d'alignement supérieures, ainsi qu'un contrôle fin des paramètres d'exposition tels que la focalisation, la pression et l'écart. EVG 620 est équipé d'une unité de mouvement d'étage XYZ à 5 axes et d'un étage microscope à 6 axes pour une flexibilité d'alignement optimale. Le mandrin à vide à deux étages assure également la stabilité des substrats lors du traitement à haute résolution. Le stepper peut accueillir des plaquettes jusqu'à 200mm et est idéal pour contrôler différents types de résistances, y compris les combinaisons enrouleur-récepteur. Il offre une excellente uniformité d'exposition, répétabilité et débit lumineux avec son illuminateur UV de haute puissance. Son contrôleur d'exposition intégré permet de contrôler la dose absolue de 25mJ/cm2 à 500mJ/cm2 avec une précision d'exposition de 0.02mL. Qui plus est, la machine est construite sur une structure solide en aluminium coulé, assurant la stabilité et la précision à long terme. L'outil dispose d'une interface graphique conviviale avec un menu intuitif et un atout de contrôle, le rendant simple et facile à utiliser. Il dispose également de capacités d'automatisation avancées telles que l'auto-wafer focus avec des fonctions de centrage, l'alignement automatique des réticules, la correction automatique des processus, et la capacité d'effectuer un traitement non stop et multi-produits. Enfin, EV GROUP 620 est équipé d'une large gamme de fonctionnalités personnalisables telles qu'un modèle de cartographie 3D, un alignement multi-masque, une capacité multi-chambres et des performances bord à bord. L'équipement est un outil précieux qui peut répondre aux divers besoins de l'industrie de la photolithographie.