Occasion EVG / EV GROUP 620 #9261506 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque utilisé pour la nanolithographie, en particulier la photolithographie. C'est un instrument à semi-conducteur qui est capable de transférer et d'aligner avec précision des motifs, tels que des lignes et des vias, sur un substrat. Les composants principaux de EVG 620 sont la colonne optique, les systèmes de commande laser et les étages de plaquettes. La colonne optique du GROUPE ALIGNER EV 620 est capable de projeter de la lumière à travers une variété de masques et de réticules, qui servent à transférer un motif sur un substrat. La colonne abrite également des optiques d'amenée de lumière et de relais, comme les miroirs de galvo, qui déplacent le motif de lumière sur le substrat. En outre, il contient des étages de précision qui dirigent le faisceau laser afin d'aligner avec précision les motifs. Les systèmes de commande laser de l'Aligner 620 sont utilisés pour ajuster la puissance, la longueur d'onde et le temps d'exposition du laser pour correspondre au motif souhaité. Le système contient également des optiques, comme un viseur multalingue, afin que les utilisateurs puissent s'assurer de la précision lors de l'alignement des motifs. Enfin, les étages de plaquettes du GROUPE ALIGNEVG/EV 620 sont responsables du déplacement du substrat. Les étages sont capables de localiser et de positionner rapidement des substrats avec une grande précision afin que les motifs puissent être alignés correctement et précisément. EVG 620 a une plage de déplacement étendue et une répétabilité de 1 µm, permettant une excellente précision de positionnement. Dans l'ensemble, EV GROUP 620 Masque Aligner est un instrument fiable et précis pour la lithographie. Avec ses systèmes de contrôle laser, sa colonne optique et ses étages de plaquettes, il est capable de transférer et d'aligner avec précision des motifs sur des substrats rapidement et efficacement.