Occasion EVG / EV GROUP 620 #9268449 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque de pointe conçu pour la photolithographie de précision. Il est doté d'une automatisation avancée, d'une précision d'alignement de sous-microns et d'une grande surface couverte. Cet équipement dispose d'un scanner plein champ de 4 pouces (10 cm) qui peut fournir un débit maximal, permettant jusqu'à 500 procédures par heure. La fonction brevetée Vertical Machine Alignment (VMA) assure un plan plat même sur les structures avec de grandes différences de surface topographique, ce qui se traduit par une performance sans précédent en écriture directe et en recouvrement. Le système est très modulaire et évolutif, permettant une gamme de configurations qui peuvent être adaptées aux besoins spécifiques de l'utilisateur. Il peut être exploité à partir d'une interface utilisateur graphique simple, ou à travers un réseau d'ordinateurs embarqués offrant un débit et une automatisation plus élevés. EVG 620 a deux composants principaux : une trame principale pour l'aligneur, et un paquet électronique de transduction pour permettre un transfert rapide de données entre l'unité et les scanners de niveau supérieur et inférieur. Sa machine optique à actionneur assure un alignement rapide et précis des timbres de masque sur les plaquettes. L'outil intègre un étage programmable de balayage de faisceau avec un interféromètre laser intégré afin de permettre une précision d'alignement de sous-microns. EV GROUP 620 peut être utilisé pour placer des marques de superposition sur des masques et des plaquettes, ainsi que pour créer des couches d'écriture directe. Pour le processus d'écriture directe, le modèle peut fournir des niveaux d'exposition variables. Il est compatible avec une large gamme de matériaux, y compris la photorésist, l'oxyde et le nitrure. L'équipement est fabriqué avec des normes strictes de contrôle de qualité, répondant aux exigences de toutes les principales fonderies de semi-conducteurs. C'est une solution fiable et économique pour la photolithographie de précision.