Occasion EVG / EV GROUP 620 #9283060 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620 est un aligneur de masque, conçu pour produire des structures de niveaux nanométriques de précision. C'est un outil polyvalent, conçu pour produire des structures et des motifs de matériaux hétérogènes, monocouches ou multicouches. La machine utilise la technologie de lithographie, ainsi que de nouveaux progrès dans l'alignement et la mesure des microstructures de plaquettes avec la précision nanométrique. EVG 620 est extrêmement précis avec des caractéristiques conçues pour assurer une soudure, un tissage et une gravure de haute performance. Le dispositif comprend un alignement à haute résolution et une précision au niveau du nanomètre dans le placement des structures et des motifs. Le stepper comprend une caméra CCD, qui sert à mesurer l'alignement, la position z et l'emplacement de la structure. Ceci permet un alignement précis et fiable des motifs nécessaires qui sont produits dans le produit final. EV GROUP 620 est idéal pour créer des images extrêmement haute résolution de structures nanométriques par évaporation. L'appareil utilise sa technologie d'évaporation pour vaporiser avec précision le matériau de niveau moléculaire requis pour les nanomètres et les sous-microns. Le stepper utilise également une technologie spécialisée en boucle fermée Auto Align. Cela signifie que l'étape effectue constamment des corrections pour assurer l'alignement entre le masque et les plaquettes de substrat. Cela permet d'améliorer la précision du produit final. De plus, 620 comprend une fonction de pré-alignement et de post-alignement qui assure que l'alignement entre le masque et la plaquette n'est pas perturbé pendant le processus. L'étape de pré-alignement aligne le masque avant l'exposition et le post-alignement contribue à améliorer l'alignement avec la plaquette. EVG/EV GROUP 620 est équipé d'un exposant frontal et frontal avancé pour s'assurer que les motifs sont correctement exposés. Le stepper comprend également des fonctionnalités telles que Auto Focus et Polarisation qui aident à améliorer la précision des motifs. EVG 620 offre une large gamme d'options de gravure plasma qui peuvent aider à produire des motifs nanométriques avec une grande précision. Il a des options telles que le processus plasma d'hélium, le processus plasma d'argon et le processus plasma d'ozone oxygéné. Les motifs gravés par plasma sont très fiables et peuvent être utilisés pour créer des microstructures de matériaux complexes. L'appareil est convivial et est livré avec un logiciel ATC convivial pour contrôler l'appareil. Ce logiciel permet un contrôle, une surveillance et un fonctionnement faciles de l'appareil. Il comprend également des outils tels que l'ajustement automatique des paramètres, l'ajustement des courbes, l'analyse statistique et une base de données intégrée. EV GROUP 620 a également la capacité de produire des motifs avec des rapports d'aspect extrêmement élevés. Il est également conçu pour être utilisé avec tous les types de matériaux d'archives, y compris le métal, le verre, la résine polymère et les couches de céramique. La 620 est un outil indispensable pour créer des structures et des motifs précis et fiables au niveau des nanomètres. C'est un dispositif polyvalent qui assure que les produits finaux sont de la plus haute norme.