Occasion EVG / EV GROUP 620 #9392780 à vendre en France

EVG/EV GROUP 620, également connu sous le nom d'aligneur de masque, est un équipement de pointe conçu pour la photolithographie de précision. Il peut être utilisé pour diverses applications, telles que la réparation d'images, le transfert de couches, l'imagerie contact et sans contact, et le transfert d'images. EVG 620 dispose d'un système de visualisation optique avancé qui permet à l'opérateur de visualiser l'ensemble du champ d'exposition en temps réel. Il propose également une technologie avancée de NGS (Next Generation Stepper) conçue pour augmenter la productivité et réduire les coûts. La technologie NGS dispose d'un contrôle automatique de l'alignement pour une précision d'enregistrement optimale, ainsi que d'un changement rapide et d'une économie de temps pouvant atteindre 40 %. Il est également conçu pour les expositions courtes et longues pour produire des images haute résolution. EV GROUP 620 est équipé d'une plaque à ciel ouvert qui permet de maintenir une température constante tout au long du cycle d'exposition. Il peut également fournir des points d'alignement de haute précision avec une répétabilité de +/- 0,1 micron ou mieux. Cela garantit une large gamme de précision d'exposition pour les processus de 0,5 à 5,5 microns. 620 a des modules de mouvement de scène de haute précision qui offrent un mouvement ultra lisse avec une vitesse rapide de 21 mm/s. Il dispose également d'une unité d'imagerie thermique sophistiquée qui offre un contrôle précis de la température, minimisant les fluctuations thermiques. Il dispose également d'une machine à vide avancée qui offre une adhérence film de haute précision et une haute pression de résistance pour les applications de contact. Le GROUPE EVG/EV 620 hautement automatisé offre une interface graphique conviviale (interface graphique). Cela permet aux utilisateurs de sélectionner des fonctions telles que le placement du point d'exposition, l'ajustement du point de dose et la découpe du cadre. Il fournit également une bibliothèque de masques prédéfinis qui peuvent être utilisés pour personnaliser un masque. EVG 620 est également équipé de deux systèmes intégrés - un outil thermique et un actif pression/vide. Le modèle thermique est conçu pour assurer une homogénéité thermique complète lors de l'exposition, tandis que l'équipement pression/vide offre une pression de contact précise et un contrôle du vide précis. Le système dispose également d'une suite logicielle spécifique à l'application avec un langage de programmation puissant et facile à utiliser pour les scripts personnalisés. L'alignement de masque EV GROUP 620 est une unité polyvalente et efficace pour une photolithographie précise. Il offre des capacités avancées telles que le contrôle automatique de l'alignement, le contrôle de la température, et le mouvement de l'étage lisse. Il est conçu pour une large gamme de précision d'exposition, assurant un haut niveau de précision pour les processus d'imagerie contact et sans contact.