Occasion EVG / EV GROUP 6200 #9239987 à vendre en France

EVG/EV GROUP 6200 est un aligneur de masque conçu pour des substrats jusqu'à 200mm de diamètre. Cette machine de pointe se compose de deux étages distincts. La première étape, dite d'imagerie directe (DI), permet de créer des repères d'alignement structurés sur des substrats. Ces repères d'alignement sont générés à l'aide d'un équipement d'imagerie primaire, qui comprend une caméra plan écran et un dispositif numérique à micromiroirs (DMD). Le système d'imagerie secondaire est constitué d'une caméra à couplage chargé (CCD) et d'une source lumineuse actinique, ce qui permet à la machine de détecter les marques d'alignement sur le substrat et de les aligner sur une précision de recouvrement prédéterminée. La deuxième étape d'EVG 6200 est utilisée pour le traitement de photolithographie. Cette étape permet la création de motifs sur des substrats par des techniques de photolithographie. Il se compose de deux composantes ; une grande unité d'exposition entièrement automatisée, qui est utilisée pour exposer des marques d'alignement sur le substrat et une machine de pulvérisation haute pression, qui permet le revêtement de photorésistances sur le substrat. L'outil d'exposition est équipé d'une interface utilisateur dédiée pour contrôler facilement les expositions et les paramètres de traitement, tandis que l'actif de pulvérisation dispose de contrôles définis par l'utilisateur qui permettent un revêtement optimal des couches de résines photosensibles. EV GROUP 6200 dispose de fonctionnalités intégrées qui fournissent aux utilisateurs une précision et une précision exceptionnelles. Il comprend un algorithme de reconnaissance d'image de pointe qui est utilisé pour identifier des marques d'alignement structurées à des niveaux microscopiques. La machine dispose en outre d'un contrôle précis de la température, permettant un traitement précis et cohérent. Il est également équipé d'une source lumineuse très efficace et uniforme à des fins d'exposition. En conclusion, EVG/EVGroup 6200 est un aligneur de masque conçu pour des substrats jusqu'à 200mm de diamètre. Il est équipé de deux étages, le premier permettant de créer des repères d'alignement structurés sur le substrat, tandis que le second est utilisé pour le traitement de photolithographie. La machine est équipée d'un certain nombre de fonctionnalités qui fournissent aux utilisateurs la précision et la précision, telles qu'une interface conviviale, un algorithme de reconnaissance d'image, un contrôle précis de la température et une source lumineuse très efficace.