Occasion EVG / EV GROUP 6200TBR #9028178 à vendre en France

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ID: 9028178
Double sided mask aligner Topside and bottomside microscopes Auto load with (3) cassette stations Cognex Patmax vision system with auto alignment capability Nanoalign package Standard and high bow chucks 6" wafer chuck vacuum contact 6" wafer chuck for warped wafers plus proximity pins 8" wafer chuck vacuum contact 8" wafer chuck for warped wafers with proximity pins Mask holders and loading frames for 7" masks Mask holders and loading frames for 9" masks UV meter Currently installed.
EVG/EV GROUP 6200TBR est un équipement d'alignement de masque conçu pour aligner avec précision les substrats et les masques en vue des processus de lithographie ultérieurs. Il facilite la précision de l'alignement de recouvrement ainsi que l'alignement pas à pas et répétition, ce qui en fait le choix parfait pour l'imagerie au niveau de la plaquette et du panneau. EVG 6200TBR offre des capacités de lithographie avancées et est idéal pour la fabrication de dispositifs optiques conformes aux normes. Le système supporte des résistances optiques avec des grossissements de 5x, 10x et 20x. Il comprend également un étage intégré à basse température et une résolution de 4 μ m pour l'alignement des caractéristiques au niveau de la plaquette. EV GROUP 6200TBR dispose d'un étage motorisé de haute précision pour une précision optimale dans les tâches d'alignement au niveau des plaquettes. Sa conception conviviale le rend facile à utiliser, tandis que sa machine d'autocontrôle garantit des performances fiables. Il est équipé d'un moniteur LCD de 6,5 pouces et de fonctionnalités intelligentes et automatisées pour une inspection facile des images. En outre, 6200TBR offre des capacités intégrées d'alignement des faisceaux, de chargement des plaquettes, de focalisation automatique et de contrôle de l'exposition combinées à des techniques de balayage avancées pour assurer une imagerie fiable. EVG/EV GROUP 6200TBR est conçu avec la sécurité en tête, avec un outil de sécurité embarqué qui empêche la surexposition du substrat au rayonnement. Cet atout permet également de maintenir le rayonnement à un niveau de sécurité tout au long d'une opération de photolithographie donnée. En outre, EVG 6200TBR dispose d'une plate-forme intégrée facultative qui permet aux utilisateurs d'assurer la prévention de la contamination et le contrôle de l'environnement. EV GROUP 6200TBR est un choix flexible et fiable pour l'alignement des masques. Il offre des fonctionnalités avancées, précision, sécurité et facilité d'utilisation. En utilisant des technologies d'imagerie avancées, 6200TBR garantit que toutes les étapes de traitement sont correctement alignées pour produire des résultats de photoliyhographie optimaux.
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