Occasion EVG / EV GROUP 640 #293639247 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

ID: 293639247
Style Vintage: 2004
Aligner 2004 vintage.
EVG/EV GROUP 640 est un adaptateur de masque automatisé conçu pour le marquage, l'alignement et l'exposition efficaces des photomasques utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs. EVG 640 est capable de travailler à la fois avec des photomasques à quartz et à chrome sur quartz, offrant la flexibilité nécessaire pour modeler des masques de toute taille ou forme dans une grande variété de procédés. EV GROUP 640 utilise un système robotique bi-portique avec une précision de niveau micron, permettant l'alignement précis des photomasques sur les substrats de plaquettes. Le dispositif est capable de régler les masques individuels pour l'angle et la position à l'intérieur d'une exposition unique, offrant plus de flexibilité et des performances de positionnement robustes. Ses positionneurs motorisés linéaires, combinés à ses encodeurs haute résolution à couverture complète, offrent un niveau élevé de précision et de stabilité pour l'alignement des photomasques. 640 intègre une interface conviviale avec une variété de fonctionnalités facilement accessibles, assurant des processus de travail efficaces et minimisant les erreurs de l'utilisateur. Il dispose d'un contrôleur intuitif, avec des fonctionnalités de définition de couche, précision de placement de masque différentiel et capacités de récupération de processus. Il comprend également des profils de faisceau programmables à plusieurs niveaux qui peuvent être ajustés de façon transparente pour maintenir la dose maximale au niveau de la dimension critique. EVG/EV GROUP 640 est équipé d'un logiciel de pointe qui fournit une multitude de fonctions, telles que l'inspection des défauts, le contrôle des processus, la collecte et l'analyse des données. Le logiciel détermine les paramètres d'exposition optimaux, tels que la plage d'exposition, le temps d'exposition, l'angle d'éclairage et l'agrandissement du motif, pour chaque masque. Il permet également l'exécution aisée de différents types d'opérations, telles que la compensation de substrat, la latence de dose et la capacité de grille multiple. Dans l'ensemble, EVG 640 est un puissant aligneur de masque avancé qui a été conçu pour l'alignement de haute précision et l'exposition des photomasques dans une gamme de substrats et de procédés. Son logiciel sophistiqué et son interface utilisateur intuitive offrent les performances et la facilité d'utilisation nécessaires pour des processus productifs et efficaces d'alignement et d'exposition des masques.
Il n'y a pas encore de critiques