Occasion EVG / EV GROUP 640 #9200554 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 9200554
Double side aligner
Model no: EV640R
Light box
Shutter
Fly eye
With mask version of frame, 7"
Substrate fixture, 6"
Computer
Manipulator
Lamp stand and other accessories
Mirror
Control cabinet
Robot controller
Mercury lamp power supply.
EVG/EV GROUP 640 est un aligneur de masque multi-chambres entièrement automatisé. Il est utilisé dans la fabrication de dispositifs optiques de précision, de microélectronique et de semi-conducteurs. Cet aligneur est un outil de précision pour le placement et la superposition des motifs qui permet une distorsion minimale et une précision d'alignement précise. Il est capable d'obtenir une précision de placement de 9 micromètres et une précision de recouvrement de 10 nm. Cet alignement de masque avancé comprend une variété de composants de base, y compris une lentille de projection de 6 diamètre, un étage robotique X-Y-Z avec une résolution de 25 nm, et trois caméras numériques haute résolution. L'unité peut gérer jusqu'à trois masques par course, et dispose de deux modes d'exposition, simple et multi-prise, permettant une exposition rapide et précise de toutes les couches. La fonction de transfert de stigmates de la machine permet d'optimiser la précision d'alignement en compensant activement les décalages inter-niveaux. Il fournit un alignement à six zones pour les expositions à une et à deux prises de vue. L'unité comprend également une variété d'autres caractéristiques intégrées, y compris la planarité et la surveillance du mandrin électrostatique, l'échange rapide de masques à l'aide de la fonction de déplacement en ligne zéro, une variété de capacités automatisées de manipulation des plaquettes et des masques, et le dépôt de particules faibles. Il est également capable d'exposer des substrats d'alignement d'espaceurs duplex multicouches et jusqu'à quatre fiduciaires d'alignement par travail. EV GROUPEVG 640 est un outil puissant et précis pour le placement et la superposition des motifs. Il offre un processus efficace pour produire l'optique de précision, l'électronique et les dispositifs semi-conducteurs. Avec ses caractéristiques robustes, il est une solution fiable pour les besoins de microfabrication de haute précision.
Il n'y a pas encore de critiques