Occasion EVG / EV GROUP 640 #9210352 à vendre en France

EVG/EV GROUP 640 est un aligneur de masque est un équipement largement utilisé pour la photolithographie de haute précision pour la fabrication d'une large gamme de dispositifs semi-conducteurs et de dispositifs photoniques avancés. Il a été optimisé pour fournir une fidélité élevée, un débit élevé et un alignement précis pour la production et la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Le système utilise un alignement à 5 nm de résolution et 5 nanomètres de pas et de répétition qui a été encore amélioré en utilisant une unité de rétroaction qui détecte le déplacement du substrat et un étage de mouvement fin pour assurer une précision et une répétabilité précises de l'alignement. La machine dispose d'une capacité de métrologie avancée offrant des performances de processus améliorées, ce qui signifie que les concepteurs de puces sont en mesure de maximiser les performances de puce. L'outil permet une large gamme de tailles de puces et de configurations d'emballage, ainsi qu'une grande variété de cibles d'alignement, telles que les techniques de contact, interdigité, empilé et poly wafer. De plus, l'actif peut traiter des formes non planes, telles que des formes circulaires, elliptiques et autres, ainsi que des formes classiques « U » (parois latérales verticales). Les temps d'exposition de EVG 640 sont plus rapides que les autres systèmes de lithographie classiques, ne nécessitant généralement que 10 à 20 ms. Le modèle peut détecter les distorsions des sous-nanomètres et est capable d'obtenir des résolutions élevées et des précisions d'alignement. L'optique de l'équipement est également conçue pour minimiser les éruptions tout en réduisant l'imagerie fantôme. Le système est équipé d'un étage d'alignement de charge rapide qui assure une charge rapide du substrat, et une lentille de projection de longue durée est incluse. L'unité comprend également un logiciel très avancé et une interface utilisateur graphique puissante (interface graphique) qui facilite la configuration et le contrôle de la machine. Cette interface graphique est facile à utiliser et offre une multitude de fonctionnalités telles que l'optimisation automatisée des paramètres d'exposition et l'étalonnage autofocus. Le logiciel offre également une large gamme de capacités précises de simulation de motifs. EV GROUP 640 est un choix idéal pour des applications de lithographie avancées en recherche et en production. Il a été sélectionné plusieurs fois pour divers prix en raison de son design robuste, d'excellentes performances et de résultats de haute qualité.