Occasion EVG / EV GROUP EV 640 #9287503 à vendre en France

EVG (EV GROUP) EVG/EV GROUP EV 640 est un adaptateur de masque très avancé conçu pour être utilisé dans l'industrie des semi-conducteurs. Cet équipement est idéal pour l'alignement des photomasques, le règlement des plaquettes, le réglage des paramètres de traitement et la précision de l'alignement. Il dispose de systèmes de positionnement XY Ω de haute précision avec une répétabilité de +/-7,5 μ m et une non linéarité de +/-10 μ m. L'étape est animée par des entraînements linéaires avec une vitesse maximale de 0,18 m/min. Il obtient une grande précision de répétabilité de position et de stabilité, ainsi qu'une faible dérive thermique. EVG EV 640 est équipé d'un système d'alignement de plaquettes haute résolution et d'une unité de métrologie laser intégrée. La machine d'alignement des plaquettes fournit un alignement très précis avec une erreur de décalage de 30 nm et une précision allant jusqu'à 10 nm avec un faisceau laser intégré. Le modèle de numérisation automatisé et l'optimiseur de puissance de l'outil de métrologie laser garantissent un débit et une précision élevés. En outre, EV GROUP EV 640 dispose de ST Marks, de caméras numériques optimisées et de la technologie brevetée M2M (masque à masque) pour un alignement précis. L'EV 640 est conçu pour l'alignement des photomasques de haute précision et est équipé d'une grille à vide et d'un degré d'évacuation contrôlé par le logiciel. Avec sa caméra de mesure optique et ST Marks, il assure l'enregistrement précis et reproductible des caractéristiques du masque. La haute exactitude stepper les moteurs garantit l'alignement exact des masques et le contrôleur automobile TDC-5 intégré fournit le contrôle précis de l'opération automobile. EVG/EV GROUP EV 640 est adapté pour les applications de lithographie de fond, telles que MEMS et lithographie à trou traversant. L'actif comprend un large éventail de fonctionnalités logicielles, telles que le chargement et le déchargement automatisés des plaquettes, la cartographie intelligente des plaquettes et le suivi de l'alignement, afin d'assurer un alignement rapide et précis. Il est également compatible avec le traitement et le suivi des lots entièrement automatisés pour une production à haut volume. Dans l'ensemble, EVG EV 640 masque aligner est une plate-forme puissante et précise conçue pour les applications avancées de lithographie. Sa grande précision et sa répétabilité en font le choix idéal pour les environnements de production les plus exigeants. Avec ses systèmes intégrés et ses logiciels puissants, EV GROUP EV 640 est un outil essentiel pour tout laboratoire ou installation de production de semi-conducteurs.