Occasion HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A #9133863 à vendre en France
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HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A est un assortiment complet de haute précision, masque et photo. Il est utilisé pour l'alignement de matériaux de masque photosensibles tels que la photolithographie dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. TWC-200A dispose d'un équipement de localisation automatique des bords (EAL) qui permet de localiser avec précision les bords des masques prétraités, indépendamment des petites irrégularités de forme. Ce système EAL permet d'assurer un alignement précis des images du masque avec le substrat, même dans des conditions extrêmes de température et d'humidité. HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A dispose également d'une unité de contrôle automatique de la contamination qui est capable de scanner et de détecter les particules qui peuvent se recueillir à la surface de la lentille pendant le processus d'alignement. Cette machine assure la résolution d'image la plus élevée possible en gardant les lentilles propres pendant le processus d'alignement afin de minimiser les défauts optiques et les aberrations. L'outil double rétroaction-boucle intégré dans la conception de TWC-200A permet de régler simultanément la position de l'étage et l'alignement du masque-image. Cela garantit un niveau élevé de précision de position et de répétabilité, permettant des exigences précises d'alignement à plusieurs niveaux pour la production de dispositifs microélectroniques avancés. Le fonctionnement de HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A est convivial ; il peut être contrôlé à la fois avec le panneau d'entrée manuel, ainsi que les commandes réseau ou le logiciel DIOS. Certaines fonctionnalités supplémentaires telles que la mémoire de référence de champ rapide et un actif de vide supplémentaire sont également disponibles sur demande. TWC-200A est idéal pour les applications de photo-lithographie, car il est conçu pour une précision et une répétabilité optimales. Il est compatible avec différentes tailles de photomasques et de substrats, et est capable d'imprimer sur tout matériau de substrat commun. Il dispose également d'une plage étendue de température et d'humidité, permettant de fonctionner dans une variété de conditions environnementales sans compromettre la qualité de l'image ou la précision d'alignement. Dans l'ensemble, HANTEX DEVELOPMENT LIMITED TWC-200A est un aligneur de masque avancé avec de nombreuses fonctionnalités pour assurer un fonctionnement efficace et précis. Il est conçu pour répondre aux exigences de la fabrication microélectronique moderne, fournissant la résolution d'image la plus élevée possible et la précision de position.
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