Occasion HITACHI Hitech #9359868 à vendre en France

HITACHI Hitech est un aligneur de masque haute performance conçu pour les processus de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et de photolithographie les plus exigeants. Avec une gamme complète de fonctionnalités, Hitech est idéal pour réaliser une variété d'applications, de la production à grande échelle aux opérations de gravure et de gravure précises. HITACHI Hitech combine une technologie avancée d'alignement des masques avec des composants optiques haut de gamme et des étages de mouvement précis contrôlés par micromètre pour fournir des résultats cohérents avec une précision répétable. L'équipement dispose d'un étage X-Y avancé qui peut se déplacer jusqu'à 0,1 micron incréments pour des alignements de masques précis et précis. De plus, Hitech intègre une technologie continue d'indexation sans vide pour effectuer des alignements à plusieurs couches de manière efficace et économique. HITACHI Hitech fournit également une excellente uniformité de plaquette grâce à une technique de canal enterré qui aide à maintenir une vitesse de gravure constante à la surface de chaque plaquette. En outre, le système est équipé d'une technologie d'imagerie confocale organique qui peut détecter même les plus petits détails d'un motif et scanner la surface de la plaquette pour le plus haut niveau de correction. En tant que caractéristique innovante, Hitech est capable de réaliser des processus intégrés par étapes avec un moteur puissant motorisé et des composants de voie personnalisés. Cette mise en page permet aux utilisateurs d'obtenir une excellente uniformité de processus et une qualité de produit distinctive. De plus, grâce à sa capacité de mesure 10x intégrée, les données peuvent être facilement enregistrées et analysées pour un dépôt de couche optimisé. Comme un paquet tout-en-un, HITACHI Hitech comprend une gamme de composants qui prennent en charge plusieurs applications. La machine fournit des étages d'échantillonnage polyvalents pour les opérations d'alignement de transmission 3D et une gamme de composants de support dédiés pour assurer des performances élevées. De plus, l'unité est livrée de série avec un outil de vision avancé qui fournit le plus haut niveau de précision pour l'alignement de la superposition des motifs et la reconnaissance précise des échantillons. Dans l'ensemble, Hitech est un aligneur de masque avancé conçu pour une variété de processus de PVD et de lithographie. En fournissant des résultats rapides, précis et reproductibles, HITACHI Hitech offre des performances supérieures pour obtenir une précision optimale de gravure et de dépôt de couche. Avec ses caractéristiques et ses composants complets, Hitech est l'alignement de masque préféré de nombreux fabricants de premier plan de l'industrie.