Occasion HTG 84-3 #9198923 à vendre en France

Fabricant
HTG
Modèle
84-3
ID: 9198923
Style Vintage: 1986
UV Mask aligner With microscope UV Lamp power supply High resolution Sub-micron printing Contact and proximity exposures Scale production alignment capability Silicon, GaAs, LiNb, InP Consistent printing: Wafers Rectangular substrates Odd sized / Brittle materials Single or split field viewing Up to 600x magnification on the optics Alignment accuracy: ±1 µm Precise wafer to mask leveling Highly collimated UV/deep UV exposure systems Two channel intensity controlling power supply systems Stationary alignment tooling Vibration isolation console Differential micrometers Self planarizing chucks Wafer chuck and mask holder included Wafer chuck motions: X, Y, Z and ø (direct drive) Z-Axis adjustment: ±750µ Air-bearing planarization system Wafer / Substrate size: Up to 6.0" wafers / Square substrates Mask rotation: 180° Mask size: 7.0" x 7.0" Vacuum mask clamp Pneumatic mask assembly lift Front side alignment accuracy: <0.5µ Printing resolution: Near UV: <0.8µ Mid UV: <0.4µ Deep UV: <0.3µ Control functions: Power Test Substrate vacuum Mask vacuum Contact vacuum Expose Cycle Skip Mask lift N2 Purge Timer: 000.1 to 999.9 sec 0.1 increments Gauges: System vacuum Contact vacuum N2 1986 vintage.
HTG 84-3 est un aligneur de masque utilisé dans le procédé de fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil avancé capable d'aligner et de modeler les masques semi-conducteurs avec la plus grande précision et précision. Les composants principaux de 84-3 comprennent une unité principale d'alignement de masque, une chambre à vide et un équipement sous vide. L'unité principale d'alignement du masque est composée d'un étage X-Y, d'un système d'alignement laser et d'une unité de vide. L'unité principale d'alignement du masque est chargée de déplacer le masque, la machine de projection laser et l'étape d'alignement du vide à l'emplacement approprié dans la chambre à vide. L'outil de projection laser se compose d'une source laser, d'un collimateur et d'une série de lentilles qui projettent des faisceaux laser sur le masque et la plaquette pour les aligner. La source laser est normalement un laser Hélium-Néon (He-Ne). Le collimateur est utilisé pour focaliser le faisceau laser sur le petit diamètre du masque ou de la plaquette. L'actif de projection laser comprend également un modèle d'inspection, qui est utilisé pour détecter les irrégularités dans les positions et les formes du masque et de la plaquette. L'équipement d'inspection est constitué d'une série de caméras capables de capturer des images du masque et de la plaquette, puis de comparer les images à des données pré-programmées pour détecter des erreurs. La chambre à vide est utilisée pour sceller le masque et la plaquette pour un alignement précis. La chambre contient un système de vide, ce qui empêche une montée en pression qui peut interférer avec la précision du processus d'alignement. L'unité de vide protège également le masque et la plaquette contre la contamination par des particules de poussière ou d'autres débris. HTG 84-3 est très précis et précis et est capable d'aligner les masques et les plaquettes avec une précision de 0,0025mm. La machine est également rapide, capable d'aligner un masque et une plaquette en 0,2 seconde, et peut être utilisée pour une variété d'applications, telles que des masques à contact et sans contact. Dans l'ensemble, 84-3 est un aligneur de masque polyvalent et fiable qui est conçu pour fournir des performances et une précision supérieures. Sa précision et sa précision en font un outil précieux pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques