Occasion HTG System 1 Model 84-3 #156406 à vendre en France

Équipement HTG 1 Le modèle 84-3 est un aligneur de masque de haute précision conçu pour aligner et exposer avec précision les motifs de masque semi-conducteur sur les puces. Il est capable d'imiter jusqu'à 5 pouces de plaquettes avec un champ d'image de 5,5 pouces et une résolution de 100 microns. Il est équipé d'un étage X/Y motorisé à un seul axe et de capteurs d'alignement multiples qui assurent un alignement précis et répétable des motifs de masques sur les puces. Le système comprend une source UV fixe de haute intensité avec une unité de commande d'obturateur réglable associée qui peut être actionnée via le contrôleur micron convivial. La source UV permet l'exposition des motifs de l'appareil et la machine de commande de l'obturateur permet un contrôle précis du temps d'exposition du motif. L'automate permet le chargement et le déchargement automatiques des plaquettes sans nécessiter d'opération manuelle. L'optique de la machine dispose d'une lentille de projection de quartz avec une construction qui est conçue pour minimiser l'aberration et la distorsion. Un iris réglable permet d'éclairer correctement les motifs des appareils pendant le processus d'exposition masqué. De plus, l'optique comporte également deux capteurs - un codeur réticule et un codeur sous-puce - qui permettent de placer avec précision et de façon répétable des puces et des masques sur des plaquettes. La machine est équipée d'une gamme de dispositifs de protection de l'environnement. Ces caractéristiques comprennent un outil de purge de l'azote, plusieurs ventilateurs de filtres et un outil de contrôle de l'alignement des plaquettes pour s'assurer que les alignements des plaquettes et des masques sont constamment maintenus. Modèle général 1 Le modèle 84-3 est un appareil puissant et fiable pour l'exposition précise et précise des motifs des dispositifs semi-conducteurs sur les puces. Son interface utilisateur conviviale et intuitive, combinée à un ensemble varié de fonctionnalités, offre un alignement de masque haute performance.