Occasion JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 #9107350 à vendre en France

JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 est un adaptateur de masque entièrement automatique qui est utilisé pour la photolithographie et est capable de produire des modèles de haute précision pour les dispositifs semi-conducteurs et optoélectroniques. Cet alignement de masque fournit un alignement de précision avec une grande précision et un débit de plaquettes élevé qui permet de réaliser les processus de fabrication rapidement et efficacement. MA-4200 est équipé d'un équipement de reconnaissance automatique des motifs à haute vitesse qui aligne et adapte avec précision les motifs de circuit désirés avec le masque requis. Il utilise un miroir séparateur de secteur pour obtenir le bon alignement du motif avec le masque et pour produire des résultats reproductibles. Le système de reconnaissance des motifs compense également les effets de la plaque et d'autres influences environnementales. En outre, JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 est équipé d'une unité de projection de masque haute résolution. Cette machine de lentilles et de miroirs projette le masque sur la plaquette avec précision et précision en quatre dimensions, permettant la formation de motifs avancés de circuits semi-conducteurs. L'outil offre également une exposition à grande vitesse et un débit rapide pouvant atteindre 10 plaquettes par minute. MA-4200 comprend également des fonctionnalités telles qu'un actif avancé de contrôle de processus qui permet aux utilisateurs de surveiller et de contrôler l'alignement du masque et de la plaquette avec précision, en effectuant des modifications de processus à la volée. Le modèle permet des rendements d'alignement optimaux et une meilleure cohérence des processus. Cet alignement de masque comprend également un ajusteur de focale commandé par ordinateur qui est utilisé pour maintenir automatiquement la focale pendant tout le processus d'exposition. Ceci assure une projection précise du motif sur la plaquette. JAPAN SCIENCE ENGINEERING MA-4200 est programmé en utilisant un fil d'interfaçage facile à apprendre, permettant aux utilisateurs de commencer à utiliser l'appareil avec un minimum d'effort. Dans l'ensemble, MA-4200 est un alignement de masque efficace et fiable qui offre un alignement de précision et un débit élevé. Il est idéal pour des applications allant de la mise en page de base du scribe à la photolithographie 3D de pointe et fournit une solution complète pour une variété de besoins en photolithographie.