Occasion JEC / JAPAN ENGINEERING COMPANY MA-2400 #9005623 à vendre en France

La société JEC/JAPAN ENGINEERING MA-2400 Mask Aligner est un outil essentiel pour la photolithographie, fournissant un contrôle précis et répétable des caractéristiques sur les plaquettes semi-conductrices. Ce dispositif hautement automatisé permet l'enregistrement précis de photomasques sur des surfaces de plaquettes pour produire des motifs de circuit précis avec une précision ultra-élevée. JEC MA-2400 Mask Aligner dispose d'un équipement de fixation à deux étages très précis, offrant des performances exceptionnelles pour les applications de finition. La technologie intégrée Autocollimateur et processeur d'image fournit un alignement précis du masque sur la plaquette, avec une répétabilité de 1 um. Le logiciel est convivial et fournit des paramètres automatisés et un contrôle de maintenance pour les processus reproductibles. Le système peut accueillir des plaquettes jusqu'à 8 pouces/200 mm et peut traiter des substrats avec des épaisseurs allant de 25 microns à 150 microns. Le Compact Dual Beam Unit est facile à configurer, permettant un temps de cycle plus court pour les processus qui peuvent être exécutés avec une seule machine à faisceau. JAPAN ENGINEERING company MA-2400 Mask Aligner est un outil très polyvalent qui peut être utilisé pour diverses applications, y compris l'impression par contact, la numérisation et la réplication 1:1. Les parties mécaniques et optiques de l'actif sont très aérodynamiques et optimisées pour des performances supérieures. MA-2400 Masque Aligner est conçu avec un mandrin sous vide à chauffage rapide, qui assure un haut degré de précision, même avec des substrats jusqu'à 8 pouces/200 mm de taille. La pression du mandrin est réglable en fonction de l'épaisseur du substrat, et la température du mandrin peut être ajustée pour un meilleur contrôle du substrat. La société JEC/JAPAN ENGINEERING MA-2400 Mask Aligner peut être utilisée dans une variété d'environnements de salle blanche allant de la classe 10 à l'ISO 7, ce qui en fait un choix idéal pour les processus sensibles. En outre, le modèle peut être utilisé avec n'importe quel type de polyarylate, de sorte qu'il peut être utilisé en combinaison avec des matériaux résistants à l'acide comme le polycarbonate. JEC MA-2400 Mask Aligner est un outil inestimable pour la photolithographie, offrant un large éventail de fonctionnalités et d'avantages pour assurer un contrôle précis et répétable des motifs de circuits fins. L'équipement hautement automatisé est facile à installer, utiliser et entretenir, fournissant une solution efficace pour les processus de photolithographie.