Occasion KARL SUSS / MICROTEC 260MS022 #9316168 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC 260MS022 Mask Aligner est un équipement de lithographie puissant et précis utilisé pour les résines épaisses et les applications multicouches. C'est l'un des alignements de masque les plus avancés du marché et il offre une combinaison unique de fonctionnalités, y compris : haut débit, optique optimisée pour la précision et la vitesse, haute résolution d'image de haute qualité, et une automatisation fiable pour un fonctionnement et une maintenance efficaces et conviviaux. MICROTEC 260MS022 utilise un système de boucle fermée en fonte à deux axes pour déplacer avec précision le réticule et les supports de substrat le long des axes X et Y et pour focaliser avec précision le réticule et le substrat. La conception en fonte à deux axes aide à améliorer la stabilité et minimise les vibrations, offrant une précision d'alignement supérieure. L'aligneur est également équipé d'un déplacement vertical à longue distance de 12µm et d'un profilomètre 3D intégré pour mesurer et vérifier le profil de la résistance après exposition. L'alignement est alimenté par une plate-forme logicielle avancée fournissant toutes les fonctionnalités nécessaires pour un fonctionnement et une maintenance conviviaux. Il comprend des fonctions de suivi, d'alignement et d'inspection puissantes qui fournissent automatiquement des résultats précis et précis. En outre, il offre une surveillance en temps réel, des fonctions d'ajustement pour affiner le processus d'alignement, ainsi qu'une interface graphique conviviale pour contrôler et organiser le flux de travail. KARL SUSS 260MS022 est capable d'atteindre une précision d'alignement très précise de ± 2µm avec une vitesse de 125µm/s. Les équipements ont une plage de grossissement de 0.75X à 12.5x avec une résolution de 3lp/cm à 200lp/cm. L'aligneur est en mesure d'offrir un traitement de 2 « x2 » à 8 « x8 » plein champ sur des substrats simples ou doubles faces avec un débit de 25 à 40 plaquettes/heure. Le Masque Aligner est également équipé de source lumineuse et d'éclairage de champ lumineux pour un contrôle et une précision améliorés. Ces caractéristiques combinées à son optique de haute qualité et l'ingénierie de précision permettent 260MS022 d'offrir d'excellentes performances, précision, fiabilité et rentabilité. Cet équipement complet est conçu pour répondre aux besoins des environnements de production à haut volume et est idéal pour les applications de lithographie dans les industries des PCB, des MEMS et des semi-conducteurs.