Occasion KARL SUSS / MICROTEC 505 #9173271 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC 505 est un équipement de haute performance Mask Aligner qui est conçu pour aligner les photomasques et les plaquettes dans des applications telles que la photolithographie. C'est un système très précis avec un contrôleur informatique intégré qui permet une précision d'alignement à aussi peu que 0,7 μ m. L'unité comprend deux composantes principales : la table d'alignement des plaquettes (WA) et la table d'alignement des réticules (RA). Les deux tables sont équipées d'étages de traduction X et Y de style micrométrique, ainsi que de deux étages Z fins. Les étages Z fins permettent un réglage indépendant des axes X et Y. Afin d'aligner le photomasque et la plaquette, la machine Mask Aligner utilise un outil de vision. Cet actif utilise soit un projecteur LED ou laser et un dispositif de capture d'image pour localiser et mesurer des points de référence sur le masque et la plaquette. De plus, le modèle peut être utilisé pour l'inspection optique du masque, la profilométrie 3D ou le centrage automatique hors ligne. Le logiciel inclus avec l'équipement est conçu pour supporter une variété de tâches liées à l'alignement, la mesure et l'inspection du masque, ainsi que fournir une interface utilisateur qui est simple et facile à utiliser. De plus, le système Mask Aligner offre une excellente précision et résolution. Il est équipé d'une échelle micrométrique d'alignement à deux axes, capable d'enregistrer des déplacements inférieurs à 0,7 μ m. Ce niveau de précision est essentiel lors de l'alignement des photomasques et des plaquettes avec des caractéristiques de taille micron. Enfin, l'unité fournit une machine d'alarme intégrée pour avertir l'opérateur de tout désalignement ou irrégularité. Dans l'ensemble, MICROTEC 505 Mask Aligner est un outil puissant qui offre précision, précision et fiabilité dans le processus d'alignement du masque. Son outil de vision intégré, sa haute résolution, son atout d'alarme et son logiciel convivial en font un choix idéal pour les applications de photolithographie.