Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293585808 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E est un aligneur de masque très précis qui est couramment utilisé dans les processus de photolithographie. Il est utilisé pour déposer et déposer avec précision des couches minces de résine photosensible sur la surface du composant ou circuit désiré à réaliser. MICROTEC MA100E utilise une technologie de pointe pour s'assurer que la lumière est précisément focalisée et contrôlée avec précision, ce qui permet de transférer avec précision un motif de circuit à la résistance. Ceci permet une résolution la plus élevée possible dans un processus de photolithographie, ce qui le rend adapté à un large éventail d'applications. KARL SUSS MA 100 E dispose d'une fonction de modification de champ qui permet de modifier l'épaisseur de la résine photosensible et la taille du motif déposé. Ceci est fait à l'aide de deux unités de contrôle distinctes qui peuvent être réglées pour différentes applications. En outre, cet équipement utilise une fonction avancée d'alignement de balayage vectoriel qui assure un alignement précis de la résine photosensible déposée sur le substrat cible. KARL SUSS/MICROTEC MA 100 E dispose également d'un système d'imagerie avancé qui est utilisé pour enregistrer avec précision les images de la photorésist appliquée. L'unité d'imagerie utilise une machine à deux caméras qui est utilisée pour examiner la résistance avant encore pas trop longtemps après l'exposition à la source lumineuse. Cela permet de vérifier avec précision les résultats. KARL SUSS/MICROTEC MA100E est capable de positionner le substrat avec une précision de 10 nanomètres, ce qui en fait un choix idéal pour tout procédé de photolithographie de précision. Il est également capable de fonctionner à des fréquences élevées, ce qui le rend adapté aux séries de production à grande vitesse. Dans l'ensemble, MICROTEC MA 100 E est un aligneur de masque fiable, de haute précision et de qualité qui est utilisé pour transférer des motifs à un substrat avec précision et précision. Avec ses fonctionnalités avancées et sa technologie, il est capable de fournir aux utilisateurs la plus haute qualité de résultats dans tout processus de photolithographie. C'est un choix idéal pour toutes les applications qui nécessitent des masques photolithographiques très précis.