Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293623405 à vendre en France

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ID: 293623405
Style Vintage: 2011
Mask aligner 2011 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 100E est un adaptateur de masque évolutif et convivial adapté à un large éventail d'opérations, y compris la photolithographie, l'exposition aux ultraviolets et l'exposition au faisceau d'électrons. L'aligneur est construit sur une plate-forme modulaire efficace à 1 axe, avec un équipement de serrage G lourd pour des alignements rapides et précis allant jusqu'à 20 microns. MICROTEC MA100E dispose d'un système précis de nivellement des plaquettes qui est intégré avec un étage de 350 mm, des étages d'exposition manuelle de 8 pouces et un alignement optique. Cette unité permet une exposition précise des différents niveaux de couches de processus afin d'obtenir une imagerie précise pour des applications à couches multiples. KARL SUSS MA 100 E est livré avec une variété de capacités d'exposition optique telles que l'imagerie laser et l'optique d'exposition standard, y compris une machine de contrôle d'intensité, l'uniformité du faisceau et le temps d'exposition des obturateurs. Il offre également un outil d'exposition automatisé qui permet une opération d'imagerie rapide avec une précision d'exposition haute résolution de 0,1 micron. Le masque aligneur est également livré avec un actif d'aspiration sous vide qui élimine la contamination de la chambre d'exposition et assure un alignement étanche. MICROTEC MA 100E est également équipé d'un logiciel d'alignement intuitif et puissant qui offre des fonctions d'alignement polyvalentes telles qu'une courbe de balayage, une cartographie de la hauteur et des modes d'alignement dynamique. Ces caractéristiques permettent un alignement rapide et précis des réticules, augmentant ainsi le débit et la productivité. Le logiciel offre également des capacités de capture d'images pour permettre aux utilisateurs d'analyser avec précision leurs résultats d'exposition. Globalement, MA100E est un aligneur de masque fiable et polyvalent idéal pour les procédés d'exposition avancés dans l'industrie des semi-conducteurs. Sa plate-forme modulaire à 1 axe très efficace et son logiciel intuitif permettent des alignements précis et rapides avec un rendement de production accru.
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