Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #293670040 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E est un aligneur de masque de haute précision conçu pour l'alignement précis de photomasques ou de réticules pour des applications de lithographie à semi-conducteurs. MICROTEC MA100E est capable de fournir des services d'exposition uniques et multiples pour des géométries d'appareils de 15nm ou plus, et peut afficher des caractéristiques jusqu'à 100 nm. L'équipement se compose d'une table optique, d'un système de mouvement finement calibré, d'une source lumineuse, d'un détecteur de précision d'alignement, d'un étage de plaquettes et d'un porte-plaquettes. La source lumineuse peut être réglée à la lumière UV, visible ou IR, et fournit un éclairage uniforme et haute résolution de la plaquette. L'unité de mouvement est conçue pour minimiser les aberrations et les erreurs associées à la traduction spatiale pour une précision d'alignement. La machine a la capacité de se déplacer vers des points d'alignement sélectionnés avec une grande précision, et la plaquette peut être chargée et déchargée rapidement et en toute sécurité. KARL SUSS MA 100 E est également livré avec une caméra automatique de collimateur pour fournir un alignement précis des caractéristiques individuelles de photomasque ainsi qu'une caméra CCD pour l'inspection, la visualisation et la mesure de la plaquette à motifs. En outre, un objectif de microscope à température contrôlée est également inclus qui peut être utilisé pour examiner les caractéristiques individuelles sur la plaquette. En utilisant un outil avancé de correction des erreurs en temps réel, MICROTEC MA 100 E a une grande précision d'enregistrement tout au long du processus d'impression. L'actif dispose également d'une plate-forme de code gris 8 bits, qui combine autofocus, calibrage de démarrage, service d'image en temps réel, et exposition automatique pour les plus hauts niveaux de précision. Pour un réglage plus précis, il y a une roue de réglage fine pour définir le motif exact pour l'impression. MICROTEC MA 100E est polyvalent et peut être utilisé pour diverses applications, y compris la création de couches structurées pour la fabrication de plaquettes. Le modèle est capable d'imprimer une largeur de ligne haute résolution de 10nm sans distorsions ni pixelation. De plus, le MA 100E peut être utilisé pour le prototypage et la production à partir de prototypes. Il dispose d'un équipement de prescription et d'imagerie de profondeur pour le contrôle de surface de la plaquette à motifs, et la conception permet l'installation d'une grande variété d'appareils d'imagerie, de détection et de mesure de motifs. Globalement, KARL SUSS MA 100E masque aligner offre un processus de lithographie fiable et précis pour une large gamme d'applications de production. Il offre une grande précision d'enregistrement combinée avec un chargement et un déchargement rapides de la plaquette et des installations pour l'inspection visuelle. KARL SUSS/MICROTEC MA100E est un système simple et intuitif qui permet un alignement précis des motifs et une imagerie précise des caractéristiques jusqu'à 10 nm de largeur de ligne sans pixelation ni distorsion.