Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9197137 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E est un adaptateur de masque entièrement automatisé qui est utilisé pour les processus de microfabrication photolithographique à haute résolution. Il est bien adapté à la fabrication de circuits intégrés, capteurs, actionneurs et autres composants microélectroniques. L'équipement MICROTEC MA100E comprend une unité de commande intégrée basée sur PC et un système d'alignement optique/mécanique avec chargement automatique du substrat et du réticule. Le réticule est monté sur un étage 5 axes et utilise un micromètre numérique pour l'alignement de précision. L'étage réticulé comporte un mode manuel, une rotation complète et des options de retrait. Le substrat est maintenu sur un mandrin sous vide et est chargé à l'aide d'une unité de manutention manuelle ou automatisée du substrat. Le mandrin à vide est motorisé et peut minimiser le désalignement du substrat. La machine est également équipée d'un outil de visualisation optionnelle et de détection d'image qui dispose d'un éclairage intégré et d'un microscope optique. Une résolution de 1µm peut être obtenue avec cette configuration optique. KARL SUSS MA 100 E dispose également d'un étage de substrat actionné sous vide de 6 ou 12 pouces avec une capacité de mouvement XY de 5µm. L'aligneur de masque est capable de projeter un motif lumineux du réticule sur le substrat revêtu de photorésist avec un rendement de transmission de la lumière de 99,7 %. L'optique de projection à haute résolution assure une tache lumineuse diffuse à travers le substrat, permettant la formation de structures complexes avec un niveau de résolution latérale extrêmement élevé, un enregistrement précis et un contraste élevé. Le MICROTEC MA 100 E peut être utilisé dans une large gamme de fractions atmosphériques et de niveaux de vide, ce qui permet des revêtements très conformes et une meilleure uniformité des couches. L'alignement du masque présente une large gamme de précision d'alignement, allant de 380 nm à 75 µm, selon les matériaux utilisés. La MA 100 E est facile à utiliser et à entretenir grâce à son interface utilisateur intuitive et à sa conception précise. Il peut facilement être intégré dans une variété de procédés de production, ce qui en fait un outil idéal pour la micro-photolithographie.