Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9375086 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E est un adaptateur de masque manuel conçu pour les procédés de photolithographie dans l'industrie des semi-conducteurs. Ce dispositif permet une précision maximale lors de la pose d'un masque sur une plaquette semi-conductrice pendant le processus de photolithographie. Au cœur de MICROTEC MA100E se trouve un étage moteur à quatre axes. Cet étage moteur fournit un mouvement précis dans les axes X, Y et Z, ainsi qu'une rotation d'axe thêta (θ). Ceci garantit une précision maximale lors du positionnement du masque sur la plaquette. Ceci est essentiel pour les processus de photolithographie, dans lesquels le placement précis du masque est critique. KARL SUSS MA 100 E est également capable d'aligner avec précision le masque sur la surface de la plaquette. Grâce à un ensemble de mécanismes d'alignement optiques et mécaniques, ce dispositif peut positionner avec précision le masque sur la plaquette avec une résolution supérieure à 0,0005 pouces. Cela permet un traitement efficace et fiable de la photolithographie. KARL SUSS/MICROTEC MA 100 E comprend également un panneau de commande, qui permet à l'utilisateur de définir et de configurer des paramètres tels que la température, le temps d'exposition et le focus. Ces paramètres peuvent être affinés pour obtenir les meilleurs résultats pour un processus de photolithographie donné. De plus, le dispositif est équipé d'un système de vide, ce qui permet de s'assurer que le masque est fermement maintenu en place lors de son déplacement à travers la plaquette. KARL SUSS MA 100E est un aligneur de masque manuel fiable et précis pour les processus de photolithographie. Son étage moteur à quatre axes assure un mouvement précis, et ses mécanismes d'alignement optique et mécanique assurent un positionnement correct du masque avec une résolution supérieure à 0,0005 pouces. De plus, le système de contrôle interne permet un réglage précis des paramètres de photolithographie, et le système de vide intégré maintient fermement le masque en place lors de son déplacement à travers la plaquette. Ensemble, ces caractéristiques fournissent un traitement de photolithographie fiable et précis.