Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 100E #9389776 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 100E masque aligner est un équipement puissant et très précis pour aligner des moules pour la production de dispositifs nanoélectroniques. Cet équipement offre une solution efficace pour la photolithographie des dispositifs de micro- et nanostructure, car il permet un alignement de haute précision des masques d'alignement utilisés dans le procédé. En photolithographie, l'aligneur de masques MICROTEC MA100E utilise un système mécanique optique extrêmement précis pour aligner avec précision les moules et les plaquettes. L'unité a une grande variété de caractéristiques qui lui permettent d'aligner efficacement les masques de la manière la plus précise, fournissant même les structures les plus complexes avec des résultats très précis. KARL SUSS MA 100 E masque aligner a une large gamme de caractéristiques qui le rendent idéal pour divers projets de photolithographie. La machine porte-masque est conçue avec trois ensembles différents de systèmes de guidage cinématique pour plus de précision et de stabilité pendant l'alignement. Il dispose d'un codeur optique réglable qui lui permet de mesurer les plus petites différences d'exactitude sub-millimétrique. En outre, cet outil dispose également d'un support cinématique à profil bas très fiable qui assure un alignement extrêmement précis de la combinaison masque et plaquette. Le modèle offre de nombreuses autres caractéristiques qui améliorent encore sa précision et son efficacité. Avec son régulateur de température réglable, MA 100 E peut maintenir la température la plus idéale pour le développement de la photolithographie. Il a également la capacité unique de se concentrer automatiquement, ajustant automatiquement l'optique selon la taille du projet, permettant ainsi un alignement plus rapide et plus précis. MICROTEC MA 100 E est un équipement très polyvalent qui peut être utilisé pour gérer une variété de projets, quelle que soit la complexité. Il offre à la fois des modes de fonctionnement manuel et entièrement automatisé, permettant un maximum de flexibilité. Ses nombreuses caractéristiques de précision et les protocoles de sécurité garantissent que le processus est complété avec la plus grande précision et la plus grande qualité. De plus, MA 100E masque aligner offre une technologie de haut niveau pour s'assurer que les projets de photolithographie sont terminés avec la plus grande précision et précision.