Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 12 Gen3 #293795194 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 12 Gen3 est un adaptateur de masque de pointe conçu pour des procédés de photolithographie de haute précision dans la fabrication de semi-conducteurs, la fabrication de MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems) et des applications de recherche avancées. Connu pour sa fiabilité, sa flexibilité et son interface conviviale, cet aligneur de masque est équipé de fonctionnalités avancées qui permettent un alignement et une exposition précis des masques de lithographie sur des substrats avec une précision et une répétabilité exceptionnelles. MICROTEC MA 12 Gen3 intègre une technologie de pointe pour offrir des performances supérieures en matière d'alignement et d'exposition des masques. Au cœur, l'équipement dispose d'un module d'alignement haute résolution qui utilise une combinaison d'optique avancée, d'algorithmes d'alignement et de servomoteurs pour obtenir une précision d'alignement de sous-microns. Cette capacité d'alignement précise est cruciale pour assurer le bon recouvrement des motifs de masque sur les substrats, en particulier dans les applications nécessitant des tolérances serrées et de petites tailles de caractéristiques. L'un des points forts de KARL SUSS MA 12 Gen3 est sa conception polyvalente, qui permet aux utilisateurs de travailler avec une grande variété de substrats, y compris des plaquettes de silicium, des lames de verre et des substrats flexibles. Le système offre plusieurs options de mandrin, telles que des mandrins sous vide et des pinces mécaniques, pour maintenir en sécurité différents types de substrats pendant le processus d'alignement et d'exposition. Cette flexibilité rend l'alignement de masque adapté à une gamme variée d'applications dans l'industrie des semi-conducteurs et les laboratoires de recherche. MA 12 Gen3 dispose d'une unité d'exposition sophistiquée qui fournit une exposition uniforme et contrôlée à la lumière UV sur toute la surface du substrat. La machine est équipée d'une source lumineuse à haute intensité, typiquement une lampe à mercure haute pression ou un réseau LED, associée à une collimation avancée de la lumière et une optique de diffusion pour assurer un éclairage uniforme et un contrôle précis de la dose pendant l'exposition. Cette capacité d'exposition uniforme est essentielle pour produire des motifs lithographiques de haute qualité avec un contraste et une résolution constants. En termes d'interface utilisateur et de contrôle logiciel, KARL SUSS/MICROTEC MA 12 Gen3 offre un outil d'exploitation intuitif et convivial qui permet aux opérateurs de programmer facilement les paramètres d'alignement, les paramètres d'exposition et les séquences de processus. L'actif comprend une interface utilisateur graphique (UI) qui fournit des commentaires en temps réel sur l'exactitude de l'alignement, la dose d'exposition et d'autres paramètres critiques du processus. En outre, le logiciel peut inclure des fonctionnalités avancées telles que la reconnaissance automatique des motifs, des algorithmes de correction de proximité et des outils de gestion des recettes pour optimiser l'efficacité et le rendement du processus. En outre, MICROTEC MA 12 Gen3 est conçu pour une intégration transparente dans des lignes de production automatisées et des environnements multi-outils, offrant une compatibilité avec la robotique, les wafers handlers et d'autres équipements couramment utilisés dans les installations de fabrication à haut volume. Le modèle peut également supporter des fonctionnalités avancées telles que la cartographie des plaquettes, la reconnaissance des marques d'alignement et la surveillance des processus en temps réel pour améliorer la productivité globale et le rendement dans un cadre de production. Dans l'ensemble, KARL SUSS MA 12 Gen3 est un équipement d'alignement de masque de pointe qui allie précision, flexibilité et facilité d'utilisation pour répondre aux exigences exigeantes des applications modernes de semi-conducteurs et de recherche. Avec ses capacités d'alignement avancées, sa manipulation polyvalente du substrat, son système d'exposition uniforme et son interface conviviale, ce masque aligneur est un choix idéal pour les chercheurs, les ingénieurs de procédés et les installations de production à la recherche de solutions de photolithographie haute performance.