Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 EL #293799117 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA-150EL est un aligneur de masque sophistiqué qui appartient à la ligue d'élite des équipements de fabrication de semi-conducteurs. En tant que composant clé du processus de photolithographie, cette machine permet un alignement précis et précis d'un photomasque avec un substrat, facilitant ainsi le transfert de motifs complexes sur des plaquettes semi-conductrices. Avec une réputation de haute performance et de fiabilité, MICROTEC MA-150EL est un choix privilégié pour les laboratoires de recherche, les universités et les installations de fabrication de semi-conducteurs dans le monde entier. KARL SUSS MA-150 EL dispose d'une plate-forme robuste et polyvalente conçue pour accueillir différentes tailles de substrats et de masques. L'équipement comprend une étape d'alignement de précision, un module d'exposition et un logiciel de contrôle sophistiqué qui travaillent ensemble de façon transparente pour assurer une précision d'alignement optimale. L'étage d'alignement est équipé d'étages x-y-z à haute résolution qui permettent un alignement micron du masque et du substrat. Cela se traduit par une résolution et une répétabilité des motifs supérieures, essentielles pour satisfaire aux exigences strictes de la fabrication moderne de semi-conducteurs. L'une des caractéristiques majeures de KARL SUSS/MICROTEC MA-150 EL est son système optique avancé, qui comprend des lentilles de haute qualité, des filtres et des illuminateurs qui sont cruciaux pour un transfert précis de motifs. La machine utilise une source de lumière UV collimatée avec une intensité et des temps d'exposition réglables pour assurer une exposition uniforme sur toute la surface du substrat. En outre, l'unité optique permet l'utilisation de différents filtres de longueur d'onde, permettant la compatibilité avec différents matériaux photorésistants et exigences de processus. KARL SUSS MA-150EL dispose également d'une interface graphique conviviale qui simplifie la configuration et le fonctionnement. Le logiciel permet aux utilisateurs de définir facilement les paramètres d'alignement, les paramètres d'exposition et les séquences de processus, ce qui le rend idéal pour les opérateurs novices et expérimentés. De plus, la machine offre des outils de suivi et de diagnostic en temps réel qui permettent d'identifier et de corriger tout problème lors du processus d'alignement et d'exposition, minimisant les temps d'arrêt et améliorant la productivité. En termes de performance, MICROTEC MA-150 EL offre une excellente précision de superposition en offrant une haute résolution. La machine est capable d'obtenir une précision d'alignement de sous-microns, ce qui la rend adaptée à des applications de pointe telles que les circuits intégrés avancés, les dispositifs MEMS et les nanostructures. De plus, l'outil offre une flexibilité dans la manipulation de différents types de substrats, y compris les plaquettes de silicium, les substrats en verre et les matériaux polymères flexibles, ce qui en fait un outil polyvalent pour divers besoins de recherche et de fabrication. En conclusion, MA-150 alignement de masque EL représente un sommet d'excellence en ingénierie dans le domaine des équipements de photolithographie. Grâce à ses capacités d'alignement de précision, à son atout optique avancé, à son interface conviviale et à ses fonctionnalités performantes, cette machine établit la norme pour atteindre un niveau de conception et d'alignement supérieur dans la fabrication de semi-conducteurs. Qu'il s'agisse de recherche universitaire ou de production industrielle, MA-150EL s'avère être un outil fiable et indispensable pour réaliser la prochaine génération de dispositifs et de technologies à semi-conducteurs.