Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 REMAN #9164723 à vendre en France
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MICROTEC/MicTec KARL SUSS/MICROTEC MA-150 REMAN est un adaptateur de masque de pointe conçu pour l'efficacité et la haute précision dans le processus de photolithographie. MICROTEC MA-150 REMAN dispose d'un large éventail de fonctionnalités qui le rendent bien adapté aux applications de photolithographie dans l'industrie de la microélectronique, allant des tâches d'alignement de base aux configurations complexes de superposition. KARL SUSS MA-150 REMAN est construit sur un cadre compact, de haute qualité, en métal, le rendant à la fois robuste et léger. Il dispose d'un chemin optique entièrement fermé pour plus de sécurité et de précision. Ceci permet l'alignement des substrats et des masques sur un large champ de vision avec des vitesses parmi les plus rapides de l'industrie. La précision de MA-150 REMAN est appelée sa « précision d'alignement » et est considérée par Suss/MicTec comme produisant une précision d'alignement de 0,1um sur une surface de 12 x 12 mm. KARL SUSS/MICROTEC MA-150 REMAN dispose également d'une gamme de fonctionnalités pour faciliter un fonctionnement précis et sûr. Par exemple, il dispose d'emboîtements de sécurité manuels et de contrôle d'intensité lumineuse avec un large éventail de paramètres d'exposition et de durée. Il dispose également de LED de puissance intégrées pour l'indication d'état et de dispositions facultatives pour la détection automatique de film. De plus, MICROTEC MA-150 REMAN dispose de fonctionnalités facultatives qui améliorent ses performances globales, y compris le contrôle de la poussière et des particules, la capacité de mesure des bords et une large gamme d'éléments de masque d'exposition. Dans l'ensemble, KARL SUSS/MicTec KARL SUSS MA-150 REMAN est conçu pour fournir le plus haut niveau de précision et de vitesse dans les opérations de photolithographie. Son cadre de qualité et sa précision d'alignement ouvrent une gamme d'applications, permettant un meilleur rapport coût-efficacité et des temps de retournement plus rapides. Ses différents emboîtements de sécurité, paramètres d'exposition et fonctionnalités facultatives permettent à l'utilisateur de personnaliser leur configuration d'alignement de masque en fonction de leurs besoins spécifiques, ce qui en fait un excellent ajustement pour les laboratoires de microélectronique.
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