Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #293600832 à vendre en France
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ID: 293600832
Taille de la plaquette: 6''
Mask aligner, 6"
Substrates, 6" x 6"
M206 / M236 Split field microscopes
Objectives: 5x, 10x, 20x
Eyepiece Magnification: 10x
Micrometer spindles
UV Ranges with optimized diffraction reducing systems
Splitfield topside microscope with turret
C-Mount for IR camera adaption
Alignment stage with loaded IR chuck
IR Illuminators and tube stage for target positioning
IR Tubes
Spare parts
Tool kit
X-Drive
IR Tool:
Chuck
Maskholder
Spacers for maskstage clamp
Stage:
X, Y Theta
Z Alignment
Wedge error compensation
Microscope manipulator with adapter
Movement synchronized with alignment
Lamp house LH 1000: 350 W / 1000 W lamp
With optical tube and mirror house / Eclipse mirror
CRT Display
Serial dialog operator interface
Substrate size: 1" x 1" - 4" x 4", Pieces
Mask size: 7" x 7"
Exposure system:
Vacuum contact and proximity
Gas separation: 0-90 um
Gas adjustment resolution: 1 µm
Contact pressure: 0.02 - 1.0 N/cm²
Exposure optics:
Wavelength / Range / Source
UV400 / 350 mm - 450 mm / 1000 W Hg
UV300 / 208 mm - 350 nm / 1000 W Hg
Alignment:
Top Side Alignment (TSA)
Accuracy: TSA down to 0.5 µm
Back side alignment
Accuracy: BSA down to 1.5 µm
Alignment stage:
Alignment range X: ±5 mm
Alignment range Y: ±5 mm
Alignment range θ: ±3°
Mechanical resolution X, Yθ: 0.05 μm
UV400 With high peak intensity at 365 nm and 405 nm
Exposure area: 6"
CIC500 for 350 W HBO
Maximum intensity at 365 nm: 19 ±4% mW/cm²
Maximum intensity at 405 nm: 30 ±4% mW/cm²
Power supply: 110 V / 220V, 50/60 Hz, 1500 W.
KARL SUSS/MICROTEC MA-150 est un masque-aligneur conçu pour effectuer le processus de photolithographie nécessaire à la construction de composants microélectroniques, tels que des puces semi-conductrices. Ce type de machine est un outil important pour la fabrication de circuits utilisés dans les procédés industriels et les produits de consommation. MICROTEC MA150 utilise un procédé appelé lithographie « step-and-repeat » pour produire des pièces microélectroniques. Cet équipement fonctionne en exposant d'abord un photomasque de verre à une source lumineuse, provoquant la projection d'un motif de photolithographie sur le substrat traité. Ce photomasque peut être rempli d'une variété de motifs différents qui dictent la forme, la taille et le placement des motifs qui seront gravés dans le substrat. On place ensuite le substrat sur l'étage de KARL SUSS MA 150 ; une série de moteurs pas à pas réglent précisément la position du substrat, ou « step and repeat », ce qui permet d'aligner les motifs souhaités. Chauffé par le dessous et exposé à la lumière du système optique aérien, le substrat est ensuite bombardé d'ions pour graver les motifs sur le substrat. Ce procédé est répété pour autant de « masques » que nécessaire pour le produit désiré. KARL SUSS/MICROTEC MA 150 est une unité hautement automatisée, qui nécessite très peu d'entrées de l'opérateur. Son logiciel fournit des recettes de processus complètes qui minimisent le risque d'alignement incorrect et d'autres erreurs. De plus, KARL SUSS MA-150 possède des diagnostics sophistiqués, des réticules et des photomasques qui permettent d'utiliser la machine avec un large éventail de substrats. MA 150 est une solution très efficace et économique pour les processus de photolithographie. Il est convivial et permet aux fabricants de produire des composants microélectroniques rapidement et avec précision. MA150 est un atout précieux pour toute chaîne de production, offrant une efficacité accrue et une meilleure qualité des produits.
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