Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #293830872 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA-150 est un adaptateur de masque automatisé polyvalent, conçu pour des applications de photolithographie. Cet alignement de masque offre des performances de haute résolution et peut être utilisé pour transférer des motifs sur des plaquettes, des substrats et d'autres procédés de photolithographie, tels que des vias de silicium traversant (TSV) et des photomasques. Il est capable d'obtenir un alignement sous-micron, de formes, de lignes, de justifications et d'autres caractéristiques très précises sur un substrat. L'alignement de masque MICROTEC MA150 est doté d'un mécanisme de mesure compact de conception et de précision, permettant un haut degré de précision et de répétabilité. Il utilise une source de lumière ultraviolette avancée (UV) avec une gamme de longueurs d'onde de 248nm - 365nm, et ses stratégies de focalisation programmables permettent une large gamme de paramètres d'exposition. KARL SUSS MA 150 masque aligner comprend également un système de caméra embarqué qui offre une vue en temps réel du processus d'alignement tout en assurant un haut degré de précision. Ce système de caméra compense également les léger désalignements du masque et du substrat. KARL SUSS/MICROTEC MA 150 supporte de multiples tailles de plaquettes, substrats et substrats d'essai, ce qui en fait un outil polyvalent pour de nombreux processus de photolithographie. Grâce à son logiciel intégré, un opérateur peut facilement importer, analyser et modifier les conceptions de CAO/GDSII. De plus, il dispose d'une détection automatisée des fonctionnalités, d'une optimisation des paramètres et d'une interface utilisateur simplifiée. KARL SUSS/MICROTEC MA150 est conçu pour des performances robustes dans un cadre industriel et a été testé pour résister aux fluctuations de température, à l'exposition aux poussières et aux produits chimiques, ainsi qu'aux chocs et vibrations. Cela fait de KARL SUSS MA150 un excellent choix pour les applications de contrôle de processus, ainsi que pour les environnements de production. Avec son ensemble complet de fonctionnalités, MA150 alignement de masque est bien adapté à de nombreux processus de photolithographie.