Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9248592 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA-150 est un aligneur de masque de haute précision utilisé pour la photolithographie de matériaux sur des substrats de l'industrie de la microélectronique. La conception de l'équipement est basée sur le principe de l'alignement optique d'un modèle photorésist (photorésist) sensible à la lumière sur un substrat. Dans le système MICROTEC MA150, deux étapes indépendantes sont utilisées. Les étages d'alignement fonctionnent de manière à permettre à l'opérateur d'aligner précisément le substrat et le photomasque sur eux-mêmes. Ceci est réalisé par une paire de Heidenhains capables de déplacer précisément les axes du substrat et des photomasques x, y et z. La conception de l'unité utilise des capteurs et des réglages manuels ultra-précis pour un alignement final et le positionnement des substrats. Ceci permet à l'opérateur d'atteindre une précision de sous microns lors de l'alignement du photomasque sur le substrat. La machine contient également un laser intégré d'alignement de plaquettes qui aide au processus d'alignement. Ce laser permet à l'utilisateur de trouver et localiser rapidement le substrat pour un alignement précis. En outre, l'outil peut être utilisé pour des séries de production de faible et de haut volume en raison de sa grande précision et de sa répétabilité d'alignement maximale. Afin d'assurer une haute répétabilité photomasque, KARL SUSS MA 150 met en oeuvre un laser de qualité industrielle. Ce laser est capable de produire sur le photomasque des déplacements de raies répétables inférieurs à un micron. Ceci permet à l'actif d'obtenir une grande précision même sur les grandes plaquettes de substrat. Le modèle MICROTEC MA-150 peut également accepter une large gamme de matériaux photorésistants, offrant la flexibilité nécessaire pour traiter une variété de plaquettes de différentes tailles et épaisseurs. L'équipement dispose également d'une option de refroidissement intégré, permettant à l'alignement du masque d'obtenir une exposition uniforme sur tout le substrat. Enfin, le système MA 150 est équipé d'un logiciel de pointe qui permet le contrôle complet du processus. Ce logiciel peut être utilisé pour contrôler la dose d'exposition et le temps d'exposition, ce qui rend les processus complexes tels que le traitement multicouche beaucoup plus simple. De plus, l'unité permet de contrôler l'épaisseur de la couche de résine pour des procédés de haute précision.