Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9269842 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA-150 est un adaptateur de masque automatique conçu pour les applications de photolithographie. C'est un équipement très précis et précis, capable de produire de petites caractéristiques détaillées jusqu'à 50 nanomètres. MICROTEC MA150 offre une précision et une répétabilité d'alignement supérieures, permettant des résultats cohérents et fiables. KARL SUSS MA 150 dispose d'une grande zone d'exposition (jusqu'à 7 x 8 pouces) ainsi que d'une tête optique multi-projection haute résolution et d'un plan de masque de film incliné. La capacité de multi-projection permet d'utiliser différentes géométries pour atteindre les objectifs d'alignement. Il dispose également de lentilles à ouverture numérique élevée et de trois lasers de classe différente (AlGaAs, HeNe ou Ar-ion). Le système peut être programmé pour effectuer tout type d'exposition photolithographique, y compris le contact, la proximité et l'exposition par pas. KARL SUSS/MICROTEC MA 150 utilise une technologie unique de découpage de faisceau pour les procédés d'impression par exposition directe. Cette technologie permet à l'unité d'obtenir un alignement précis du masque par rapport au substrat sans erreurs de positionnement. La machine est également capable d'obtenir une exposition multiple dans différentes directions. Cela permet de produire des motifs avec des caractéristiques complexes en moins de temps. L'outil est conçu pour être facile à utiliser et à gérer. L'interface utilisateur graphique (UI) conviviale permet aux opérateurs de contrôler, personnaliser et surveiller facilement la performance des actifs. Les paramètres contrôlés par ordinateur, tels que le temps d'exposition, la puissance laser et le type de masque, peuvent être ajustés pour répondre aux exigences d'un large éventail d'expériences et d'applications. Dans l'ensemble, KARL SUSS MA-150 est un excellent choix pour les applications photolithographiques qui nécessitent un alignement rapide et précis du masque sur le substrat. Le contrôle automatisé du modèle, la variété des modes d'exposition et l'interface facile à utiliser en font une solution d'imagerie hautement efficace et fiable.