Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA-150 #9384739 à vendre en France
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KARL SUSS/MICROTEC MA-150 est un adaptateur de masque entièrement automatisé conçu pour les processus de lithographie dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est utilisé pour transférer des motifs de circuits micro-électroniques sur la surface d'une plaquette. MICROTEC MA150 fournit jusqu'à 15 milliwatts (mW) d'énergie d'exposition à la plaquette recouverte de résine à travers une fenêtre optique en quartz. KARL SUSS MA 150 offre une variété de caractéristiques, y compris une grande précision d'alignement, un large champ de vision et un débit élevé. Pour l'enregistrement et l'alignement précis du masque et de la plaquette, l'équipement est équipé d'un système d'alignement visuel haute résolution et d'une unité d'alignement automatique en option. KARL SUSS MA150 dispose également d'une fenêtre optique à quartz d'indice élevé, d'un niveau d'énergie d'exposition de 0.1mW à 15mW, d'une source lumineuse d'une longueur d'onde comprise entre 535 et 650nm et d'un grand champ de vision couvrant une plaquette de 7 pouces. La machine est optimisée pour les processus d'exposition à semi-conducteur avec une précision et une répétabilité d'exposition élevées, un débit élevé et un prix bas. MICROTEC MA-150 peut être utilisé dans une large gamme de températures, y compris des températures jusqu'à 50 degrés Celsius, pour assurer une exposition photorésist uniforme sur l'ensemble de la plaquette. KARL SUSS/MICROTEC MA 150 est facile à utiliser et est équipé d'un écran tactile convivial et d'une variété de recettes d'exposition qui peuvent être programmées et sauvegardées. L'outil est également capable d'imagerie de champ sombre et de champ lumineux, ce qui permet une détection plus facile des défauts. Les motifs d'exposition peuvent être stockés en mémoire et rappelés pour des expositions répétées. En outre, MICROTEC offre également un logiciel de générateur d'exposition optionnel qui peut être utilisé pour modifier un motif d'exposition stocké. MA150 est un atout d'alignement et de lithographie haute performance qui fournit des résultats fiables et reproductibles et est idéal pour les applications nécessitant des processus de lithographie exigeants et précis. C'est un outil extrêmement polyvalent et puissant pour la fabrication de circuits intégrés à petite et grande échelle.
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