Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #9173378 à vendre en France

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ID: 9173378
Taille de la plaquette: 8"
Automatic mask aligner, 8" Wafer type: Notch Capable of working with wafer masks up to 9"x9" Configured for top side alignment Ergonomic cassette plateforms 1000 W Lamp house Lamp power supply unit CIC1000 LH1000 UV400 Optic (For 365 nm and 405 nm) Lamp adapter LH1000 / HBO MA8 / MA200 2 Channels light sensor 365 / 405 nm AL3000 Auto alignment system DVM8 Microscope With motorized objective movement with field expanders Objective 20x OLYMPUS UMPL FL 20x Working distance: 12 mm XRS Pre aligner Large clear field proximity mask holder for 9" corner marks With 8" exposure area 8" Proximity chuck.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC est un aligneur de masque utilisé principalement pour la recherche et le développement de circuits électroniques et la production de photomasques. L'unité fournit un alignement de précision haute résolution avec une capacité de plaquettes jusqu'à 200 mm et une plage de grossissement de base variable entre 10X et 60X. Il peut également accueillir l'application de photorésist sur des plaquettes jusqu'à 200 mm et permet d'ajuster les paramètres d'exposition pour différents types de résines. Le dispositif utilise des moteurs pas à pas et des capteurs optiques pour l'alignement précis et le contrôle de la focalisation, fournissant des résultats fiables et reproductibles pour les applications d'écriture directe. Il dispose d'un système de reconnaissance fiduciaire et de centrage avec une précision de +/- 0,10 mm. La caméra du dispositif peut détecter les marques d'alignement de la plaquette avec une réflectivité minimale. En outre, il dispose d'un mécanisme auto-focus pour assurer le plus haut niveau de précision pendant l'exposition. MICROTEC MA 200CC dispose également d'une reconnaissance automatique des plaquettes, d'un contrôle avancé des processus et d'un algorithme qui permet d'optimiser les paramètres d'exposition. Il est capable de modeler des couches transparentes à l'aide de photomasques en quartz, chrome et aluminium, ainsi que d'une grande variété de matériaux photorésistants. L'appareil peut traiter une variété de matériaux, y compris l'époxy, PDMS, SiO2, Si3N4 et Polyimide, ainsi qu'une gamme de matériaux avancés tels que Ni, Ti, Au, Pd et Cr. KARL SUSS MA-200 CC est idéal pour les applications de recherche et de développement, y compris les circuits électroniques, les photomasques et le traitement photorésiste. Il est conçu pour fournir le plus haut niveau de précision, de précision et de répétabilité, assurant des résultats fiables et reproductibles. Il est également facile à utiliser et permet de créer une variété de matériaux. L'appareil est un outil inestimable pour les développeurs de circuits électroniques et de production de photomasques, fournissant des résultats économiques et de haute précision.
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