Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 CC #9182471 à vendre en France

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ID: 9182471
Taille de la plaquette: 6"-8"
Style Vintage: 1995
Proximity aligner, 6"-8" 1995 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 CC Mask Aligner est un système de lithographie automatisé utilisé pour transférer des motifs de photomasques vers des plaquettes. Il est typiquement utilisé dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et autres dispositifs microélectromécaniques. MICROTEC MA 200CC est une solution rentable pour les applications dans lesquelles une grande précision et répétabilité sont essentielles. KARL SUSS MA-200 CC est construit autour de plusieurs composants clés, tels qu'un étage de micro-résonance (MR) qui fournit un alignement précis et répétable du photomasque sur la plaquette. L'étage MR est couplé à un système d'alignement piézo-basé qui assure une précision de positionnement vertical et latéral sous micron du masque par rapport à la plaquette. De plus, KARL SUSS MA 200 CC utilise un pas à haut débit à haute résolution de 6 "qui fournit un débit optique pouvant atteindre 340 µm/s et une précision d'alignement de ± 1 µm en X, Y et Θ. En fonctionnement, un photomasque est chargé sur l'étage MR, puis amené à proximité de la plaquette. Le photomasque et la plaquette sont alors alignés optiquement par rapport au repère réticulaire et à une LED blanche fraîche. Cet alignement est effectué à l'aide d'une méthode à trois caméras avant l'alignement et l'exposition de la plaquette. Une fois l'alignement terminé, la plaquette est exposée puis l'étage MR est déplacé vers la position d'exposition suivante. Lorsque toutes les expositions sont terminées, le photomasque est déchargé et un nouveau photomasque est chargé pour d'autres expositions. En plus de ce processus de lithographie classique, KARL SUSS MA 200CC comprend un protocole automatisé pour aligner et exposer plusieurs plaquettes simultanément afin de maximiser la productivité. MA 200 CC offre une variété de caractéristiques qui en font un outil essentiel dans la production de dispositifs semi-conducteurs. Il offre une résolution de 0,5 μ m à 10 μ m, et peut exposer divers matériaux de substrat tels que polymères et hybrides. De plus, il a un prix compétitif et peut être adapté à une variété d'étapes de processus et de matériaux. MICROTEC MA-200 CC est un outil polyvalent et fiable qui peut répondre aux exigences difficiles de la fabrication de dispositifs microélectroniques de haute valeur. De ce fait, il est devenu un composant essentiel de tout laboratoire de lithographie pour la fabrication de micro-dispositifs complexes.
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