Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 Compact #9289493 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 Compact est un appareil automatisé entièrement automatisé conçu pour la planarisation pratique et précise de photomasques pour la microlithographie. C'est un alignement de masque en boucle fermée qui utilise la technologie brevetée de direction de faisceau pour aligner rapidement les masques avec une grande précision. L'alignement est doté d'un cadre à quatre colonnes rigide unique qui permet une large gamme de stratégies d'alignement. Grâce à sa conception à faible vibration et à sa glissière linéaire, MICROTEC MA 200 Compact offre une excellente stabilité à long terme et des résultats fiables. KARL SUSS MA-200 COMPACT dispose de deux mécanismes de balayage. Le premier est un mécanisme breveté d'auto-alignement de direction de faisceau qui utilise des éléments actifs et passifs pour aligner automatiquement le masque à quelques nanomètres de la position spécifiée. Le second est un mécanisme fixe de déviation du faisceau avec un champ de vision allant jusqu'à 2000 μ m, permettant une large gamme de couverture. L'aligneur peut être équipé d'une variété de plis et d'étages de plaquettes, et dispose d'un système d'échange ordonné de plaquettes facilitant les changements rapides de masque. KARL SUSS/MICROTEC MA-200 COMPACT est équipé d'un laser à diode laser pour l'alignement automatique et d'un système de balayage continu pour la détection et la validation des bords. KARL SUSS MA 200 Compact est conçu pour fournir une précision d'alignement latéral précise pour traiter automatiquement des plaquettes de 200 mm de diamètre et 4,5 mm d'épaisseur. De plus, MICROTEC MA-200 COMPACT est équipé de deux lentilles de balayage de précision intégrées pour visualiser l'échantillon sur le masque pour un alignement correct. Ces lentilles sont entièrement achromatiques et conçues pour offrir une flexibilité d'imagerie maximale. Cet alignement présente également des caractéristiques avancées telles que des accéléromètres à balayage pour réduire les vibrations, et un mécanisme de correction dans le plan pour éliminer les résidus d'alignement restants dus à la flexion des plaquettes. MA 200 Compact offre un fonctionnement facile et une formation minimale de l'opérateur, offrant plusieurs niveaux d'accès aux utilisateurs pour une production ininterrompue. La conception conviviale avec interface utilisateur graphique, un étalonnage facile et plusieurs étapes de test/validation permettent aux opérateurs de se lever et de fonctionner rapidement avec un alignement de masque. MA-200 COMPACT offre une répétabilité et une polyvalence maximales pour le traitement des masques et est idéal pour les applications de photolithographie de haute précision.