Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 EL #9193662 à vendre en France
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ID: 9193662
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1996
Mask aligner, 8"
Lamp: 1150w
1996 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 EL est un aligneur de masque, conçu pour le processus de photolithographie pour créer des fonctionnalités micron ou sub-micron dans les dispositifs microélectroniques. Il est adapté à des applications telles que les photomasques, répliques, micro-usinage, MEMS, tournage de diamant (coupe optique de diamant d'ultra-précision), et d'autres. Le dispositif utilise un petit masque à haute vitesse pour pointer précisément le motif désiré sur la photomasque, puis le masque est exposé sur un substrat. L'équipement est équipé d'un système de mouvement à 6 axes et d'un microscope motorisé qui permet de réaliser un alignement précis par rapport au substrat. L'unité comprend également un angle variable et une fente motorisée pour un réglage fin des paramètres d'exposition. MICROTEC MA 200 EL est contrôlé par une étape de balayage X-Y. Il est capable de fournir une zone de travail jusqu'à 200x200mm et un certain nombre de substrats d'échantillon jusqu'à 25 x 25mm, jusqu'à une précision de champ de 1µm. La vitesse maximale est de 3,5 m/s. La machine utilise une haute performance le contrôleur de SPiD-2 de 16 morceaux pour contrôler la fente motorisée avec le stade de mouvement, en accomplissant l'alignement d'exactitude de sous-micron. Il comprend également un outil de vision basé sur FPGA, capable d'identifier automatiquement la position du substrat. KARL SUSS MA200 EL comprend un mode d'exposition unique amélioré, avec un temps d'exposition pouvant aller jusqu'à 5 secondes. Il est capable de contrôler automatiquement les paramètres d'exposition selon le schéma de conception. La précision et la répétabilité de l'alignement sont améliorées par la commande de déflexion. De plus, l'actif est capable de régler manuellement l'angle de désalignement vertical entre le masque et la puce. L'appareil est compact, léger et très facile à entretenir, ce qui en fait un choix idéal pour des applications pratiques d'ingénierie et de développement. Il peut être facilement intégré dans un environnement de salle blanche standard.
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