Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #293590402 à vendre en France

KARL SUSS / MICROTEC MA 200
ID: 293590402
Taille de la plaquette: 8"
Mask aligner, 8".
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un aligneur de masque utilisé dans la lithographie optique et la production de photomasques. Il est fabriqué avec une combinaison pas à pas/aligneur qui lui permet de créer des photomasques rapidement et avec précision. Il a une scène de huit pouces de wafer, qui peut accueillir une variété de tailles et de formes de wafer. Le masque aligneur est capable d'une large gamme d'intensités d'exposition et dispose d'un système d'échange automatique de masques qui permet aux utilisateurs de passer rapidement entre les masques. Avec un taux de scan allant jusqu'à 4000 lignes/mm, MICROTEC MA200 est également très efficace. Son unité de focalisation pilotée par ordinateur maintient une excellente uniformité sur tout le champ de vision, et son mandrin à vide maintient le masque en place avec un contact stable. Sa conception conviviale le rend facile à utiliser, et son interface graphique intuitive garantit que l'utilisateur est toujours conscient de l'état de son travail. KARL SUSS MA-200 dispose d'un large éventail de fonctionnalités, dont un moniteur vidéo intégré, un système d'alignement optique de haute précision et un additionneur de motifs à haut rendement. Il est capable de 0,1 micron de résolution et peut traiter des substrats jusqu'à 200mm de taille. Le système de détection interne évite les erreurs et les dispositifs de protection intégrés assurent la sécurité des masques et l'intégrité du produit fini. Dans l'ensemble, KARL SUSS/MICROTEC MA200 est un aligneur de masque très efficace et fiable. Sa grande variété de caractéristiques, telles que sa vitesse de balayage, son alignement optique de précision et ses systèmes de protection, en font un choix idéal pour la lithographie optique et la production de photomasques. Grâce à sa conception conviviale et à son interface graphique intuitive, KARL SUSS MA 200 permet aux utilisateurs de créer des photomasques précis rapidement et avec précision.
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