Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #293614878 à vendre en France

KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un adaptateur de masque très précis, polyvalent et puissant conçu spécifiquement pour les procédés de lithographie optique. Il est capable de réaliser un alignement très précis et répétable de différents masques de précision sur différents substrats dont des substrats tels que le verre, le silicium et la céramique. MICROTEC MA200 dispose d'un système unique d'alignement en trois étapes, d'un alignement optique en quatre points, d'un étage d'inclinaison mécanique et d'un microcontrôleur intégré. Cette combinaison permet des résultats d'alignement exceptionnellement précis et reproductibles. Le système d'alignement en trois étapes de KARL SUSS MA-200 est une fonctionnalité spécialisée qui offre précision et répétabilité dans le processus de lithographie. La première étape est l'alignement grossier, qui est effectué par l'étape d'inclinaison mécanique. Cet étage d'inclinaison permet à l'utilisateur de déplacer le substrat vers l'emplacement et l'angle d'alignement souhaités. Une fois l'alignement grossier terminé, l'alignement optique en quatre points est utilisé pour affiner l'alignement. Cette étape utilise quatre têtes optiques distinctes pour mesurer l'alignement du masque et du substrat. Enfin, le microcontrôleur est utilisé pour analyser les données des deux étapes précédentes et corriger les éventuels écarts. MA-200 est également très polyvalent, car il peut accueillir divers substrats allant du verre au silicium. Ceci est possible grâce au microcontrôleur intégré à l'intérieur de l'alignement du masque. Ce microcontrôleur est équipé d'un logiciel spécialisé capable de mesurer avec précision et précision la taille, l'épaisseur et la forme de chaque substrat. Le microcontrôleur peut également ajuster l'étage d'inclinaison et la structure optique à quatre points de chaque substrat, ce qui permet d'optimiser le processus d'alignement pour chaque taille, forme et matériau. Dans l'ensemble, KARL SUSS MA200 est un alignement de masque puissant, très précis et polyvalent, puisqu'il dispose d'un système d'alignement à trois étages unique, d'une optique à quatre points, d'un étage d'inclinaison mécanique et d'un microcontrôleur intégré. Cet alignement de masque rend les processus lithographiques beaucoup plus précis, fiables et reproductibles, ce qui en fait un excellent choix pour toute procédure de lithographie optique.