Occasion KARL SUSS / MICROTEC MA 200 #9238413 à vendre en France

KARL SUSS / MICROTEC MA 200
ID: 9238413
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 1989
Mask aligner, 8" Proximity mode Special cassette loader / Unloader XRS PAL And top side alignment CIC1000 Lamp power supply DVM8 Field expander AL3000 Auto align Lamp: 1000 Watts LEITZ: 25x Mask, 9" UV400 LH1000 1989 vintage.
KARL SUSS/MICROTEC MA 200 est un aligneur de masque polyvalent et de précision. Il fournit un alignement précis et reproductible des plaquettes et des masques avec une grande uniformité et répétabilité. Ce dispositif permet un alignement précis des substrats jusqu'à 200 mm de diamètre pour les masques jusqu'à 880 mm de diamètre. MICROTEC MA200 est conçu pour la lithographie de production. Il dispose d'une interface simple et conviviale qui permet aux utilisateurs de programmer rapidement les paramètres d'alignement et d'exposition souhaités. Le logiciel de commande de la machine est robuste et facile à comprendre. Il offre également des fonctionnalités avancées telles que la possibilité de stocker des programmes, le réglage automatique de l'équipement d'éclairage, et un assistant opérateur pour le réglage fin. KARL SUSS MA-200 emploie une gamme d'optiques de précision et d'électronique de pointe pour assurer l'alignement de précision et l'exposition des plaquettes semi-conductrices et autres substrats. L'optique utilise un faisceau laser cuivre-vapeur et un système de lentilles motorisées pas à pas pour assurer un alignement précis. Une unité motorisée d'alignement de plaquettes sur masque avec une précision allant jusqu'à 30 nm assure un alignement reproductible et précis des substrats sur les masques. L'optique est également capable de corriger l'inclinaison latérale, la hauteur et l'inclinaison latérale, ainsi que d'adapter le profil de la plaquette sans contact au masque. MA-200 dispose également d'une machine automatisée de manipulation de masque pour l'échange de plaquettes contre masques et la manipulation de grandes lentilles. L'échange wafer-to-mask est effectué à l'aide d'un outil d'ascenseur, et un actif de vide tient et libère précisément les wafers et masques. L'optique avancée vit dans un environnement de contrôle de la température et de l'humidité, assurant une protection maximale au processus de lithographie. KARL SUSS MA200 offre une solution efficace et rentable pour les pratiques de masque de production, assurant l'alignement de précision et l'exposition des substrats de plaquettes à une vitesse allant jusqu'à 16 plaquettes par heure. Cela rend le modèle idéal pour les applications de production à haut volume.
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